[实用新型]轮档架构

说明书

本实用新型公开了一种用于光刻机线排的轮档架构包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。本实用新型能够避免线排涉水造成设备损坏，能将线排固定(包括临时固定)增加稳定性进而避免线排位置不固定影响人员操作，能适用于各种宽度高度的线排，能节省光刻机设备维护时间，提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及一种用于光刻机线排的轮档架构。

背景技术

光刻机(Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫Mask Alignment System。光刻机(Mask Aligner)是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在3千万至5亿美元。

光刻机过程中需要定期进行检修升级等维护操作,在维护操作种容易因构造问题,造成光刻机线排破损,引发机台漏水,并影响维护操作时间。并且，光刻机在维护操作中需要临时移动原线排的走线位置，在移动过程中线排会被来回拉扯，线排破损的几率会增加。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能适用于各种光刻机线排，能避免拉扯、漏水造成线排破损，使线排能临时固定在需要位置的轮档架构。

为解决上述技术问题，本实用新型提供用于光刻机线排的轮档架构，包括：

主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；

移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；

线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。

可选择的，进一步改进所述的轮档架构，还包括：固定结构，其固定在自锁框架结构的两侧面和或顶面，其适用于将轮档架构固定在旁侧的设备上。增设固定结构可以便于线排固定或临时固定在其他结构上，比如，两个线排走线路径一致，两个线排之间通过临时固定增加稳定性。再比如，机台漏水走线位置积水，移动支持部的高度不足以防止线排沾水，则可通过固定结构将线排临时固定在设备壁上。

可选择的，进一步改进所述的轮档架构，还包括：提示涂层，其涂覆在自锁框架结构外侧壁上，其采用荧光材料形成自发光涂层。

提示涂层的作用主要包括两种：1、引起注意避免，避免操作人员不小心踩踏线排，造成损坏。2、标记线排路径，操作人员无需降低高度(蹲下)即可以清楚观察到线排位置及走线路径。3、标识线排，可以将提示涂层制作为不同的形状、数字、字母等标记，用于标记不同的线排，便于操作人员找寻。

可选择的，进一步改进所述的轮档架构，构成所述自锁框架结构的各边框结构相同，该每一条边框结构包括：

容置结构，其为中空结构，其一侧壁上设有多个凹部；

插入结构，其上设有多个凸部，其能插入所述容置结构，所述凸部与凹部相配合形成卡固。容置结构和插入结构使各边框的长度可调整，进而边框结构的长度可调整，能提高轮档架构的适用性，使轮档架构能适用于各种高度、厚度的线排。

可选择的，进一步改进所述的轮档架构，所述移动支撑部包括：万向滚轮，其固定在高度调节件下方；

高度调节件，其上方固定连接所述自锁框架结构，其适用于调整高度。