[实用新型]真空溅镀系统

权利要求书

1.一种真空溅镀系统，适用于在至少一基板上沉积薄膜，所述真空溅镀系统包含：腔体，及基座，所述腔体界定出制程腔室及邻近所述制程腔室的低真空腔室，并包括设置于所述制程腔室与所述低真空腔室之间的真空阀门，所述基座设置于所述制程腔室且用于承载所述至少一基板，其特征在于：所述真空溅镀系统还包含自动化横移台车及自动化取放片单元，所述自动化横移台车可移动地设置于所述低真空腔室并供至少一待溅镀基板置放，所述自动化取放片单元可移动地设置于所述低真空腔室且用以移动置放于所述基座上的所述至少一基板，或是置放于所述自动化横移台车上的所述至少一待溅镀基板。

2.根据权利要求1所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述自动化取放片单元还包括连接于所述腔体且可移动趋近或远离所述制程腔室的水平线性滑台，及连接所述水平线性滑台且可移动趋近或远离所述自动化横移台车的垂直线性滑台。

3.根据权利要求2所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述自动化取放片单元还包括连接于所述垂直线性滑台且可连带所述至少一基板移动的传动块，所述传动块具有供所述至少一基板设置的基板传送固定块，及多个设置于所述基板传送固定块上且可供所述至少一基板固定的基板传送固定柱。

4.根据权利要求3所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述自动化横移台车包括设置于所述低真空腔室且可移动趋近或远离所述制程腔室的线性滑台，及设置于所述线性滑台上且可供所述至少一待溅镀基板置放的基板储存匣。

5.根据权利要求4所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述基座包括纵向截面呈倒U型且可沿轴心旋转的旋转式载台，所述旋转式载台具有多个围绕所述轴心且可供所述至少一基板设置的基板固定座。

6.根据权利要求5所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述基板固定座分别包括供所述至少一基板设置的基板固定柱，及两个供所述至少一基板定位的定位销。

7.根据权利要求6所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述真空溅镀系统还包含设置于所述制程腔室的冷却单元，所述冷却单元包括设置于所述基座且用以供冷却流体流入的进液阀、设置于所述基座且用以供所述冷却流体流出的出液阀，及连接所述进液阀与所述出液阀用以供所述冷却流体流动的流通管。

8.根据权利要求7所述的真空溅镀系统，其特征在于：所述真空溅镀系统还包含设置于所述制程腔室的镀膜单元，所述镀膜单元包括用以供靶材设置且可偏摆角度的靶材座。