[实用新型]轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构

权利要求书

1.一种轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，包括转送机架(1)，所述转送机架(1)的下端设有用于放置轴承的物料仓(2)，其特征在于，所述的转送机架(1)上设置有与竖直平面倾斜设置的输送构件(3)，所述输送构件(3)下端位于物料仓(2)内，输送构件(3)的上端连接有用于轴承排出的排出机架(4)，所述的输送构件(3)自下而上运动，所述排出机架(4)的尾端部连接有用于轴承表面初步抛光的抛光组件(30)。

2.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的抛光组件(30)包括抛光座(31)以及设置于抛光座上的上抛光轴(32)与下抛光轴(33)，所述的上抛光轴(32)与下抛光轴(33)可相对抛光座进行周向的转动，且在上抛光轴与下抛光轴之间具有供轴承滑入的抛光间隙(34)，所述抛光间隙(34)一侧的端部与排出机架(4)相连通接收从排出机架(4)上滑下的轴承。

3.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的输送构件(3)包括上下两端架设在转送机架(1)上的传送带(6)以及用于驱动传动带转动的驱动电机(7)，传送带(6)上设置有若干沿传送带(6)长度方向设置的拆卸板(8)，每个所述拆卸板(8)上均设有轴承架(5)，轴承架(5)与拆卸板(8)可拆装连接。

4.根据权利要求1所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的转送机架(1)上还设有用于清洁轴承架(5)的清洁构件(9)，所述的清洁构件(9)设置于转送机架(1)的顶端部，所述的清洁构件(9)包括架设在转送机架(1)上的转辊(10)，转辊(10)上设置有周向旋转分布的清洁毛刷(11)，所述转辊(10)的端部连接有用于驱动转辊(10)转动的清洁驱动器(12)。

5.根据权利要求4所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的转辊(10)与轴承架(5)之间倾斜设置，且转辊(10)自远离排出机架(4)一侧向靠近排出机架(4)一侧倾斜向上设置，与轴承架(5)的倾斜方向相反。

6.根据权利要求3所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述转送机架(1)的两个侧端部均设置有挡板(13)，挡板(13)自转送机架(1)的下端延伸至转送机架(1)的上端，且在与排出机架(4)相对应位置处开设有供轴承滑落的缺口(14)，所述轴承架(5)朝向排出机架(4)一侧的端部与挡板(13)配合，当轴承位于轴承架(5)上时，靠近排出机架(4)一侧的轴承抵靠在挡板(13)上。

7.根据权利要求6所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的排出机架(4)的输入端架设挡板(13)的缺口(14)上，且在排出机架(4)与挡板(13)的接合处设置有用于调整排出机架(4)进口处间隙大小的调整构件(15)。

8.根据权利要求7所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的调整构件(15)包括调整支座(16)，所述的调整支座(16)上具有向下凹陷的内凹槽(17)，所述的内凹槽(17)中设有调整块(18)，所述的调整支座(16)上设置有横向穿设在内凹槽(17)中用于锁定调整块(18)的锁定件(19)。

9.根据权利要求8所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，所述的锁定件(19)一端螺接在调整支座(16)上，另一端抵靠找调整块(18)上。

10.根据权利要求6所述的轴承外圈自动上料双轴粗抛光机构，其特征在于，位于转送机架(1)两侧的挡板(13)之间设置有盖板(20)，盖板(20)与传送带(6)之间形成有输送通道(21)。