[实用新型]一种掩膜基片和掩膜板

权利要求书

1.一种掩膜基片，用于发光材料蒸镀，包括有效使用区和调整固定区，所述调整固定区围设于所述有效使用区外围，所述有效使用区与所述调整固定区采用相同材料且形成为一体，其特征在于，所述调整固定区的背离所述有效使用区的四周边缘均设置有待夹持结构，所述待夹持结构用于所述掩膜基片张网固定时被张网机夹持。

2.根据权利要求1所述的掩膜基片，其特征在于，所述待夹持结构为形成于所述调整固定区边缘的多个齿部，所述齿部相互间隔。

3.根据权利要求2所述的掩膜基片，其特征在于，所述齿部等间隔设置。

4.根据权利要求3所述的掩膜基片，其特征在于，所述齿部的平行于所述掩膜基片的截面形状为矩形、梯形或者三角形。

5.根据权利要求1所述的掩膜基片，其特征在于，所述待夹持结构与所述调整固定区采用相同材料且形成为一体。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的掩膜基片，其特征在于，所述调整固定区包括第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区和所述第三区对称设置于所述有效使用区的左右两侧，所述第二区和所述第四区对称设置于所述有效使用区的上下两侧；

所述待夹持结构第一分部、第二分部、第三分部和第四分部，所述第一分部和所述第三分部对称设置于所述有效使用区的左右两侧，所述第二分部和所述第四分部对称设置于所述有效使用区的上下两侧。

7.根据权利要求6所述的掩膜基片，其特征在于，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区沿所述有效使用区的外围周向依次分布且彼此对接。

8.根据权利要求1所述的掩膜基片，其特征在于，所述有效使用区包括多个形状大小均相同的子区，多个所述子区等间隔排布呈阵列。

9.一种掩膜板，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的掩膜基片，还包括框架，所述掩膜基片固定于所述框架上，且所述掩膜基片的四周均分别与所述框架固定连接。