[实用新型]一种光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构及光伏组件有效

专利信息
申请号: 201922019213.X 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN210866196U 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 杨洁;孙海杰;王钊;徐孟雷;郑霈霆;张昕宇;金浩 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 刘新雷
地址: 314416 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电池 局部 氧化 钝化 接触 结构 组件
【权利要求书】:

1.一种光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,包括电池片主体、设置在所述电池片主体表面的第一隧穿氧化层、设置在所述隧穿氧化层表面的第一多晶硅薄膜层,所述电池片主体表面包括钝化接触区和吸光区,所述第一隧穿氧化层设置在所述钝化接触区,所述第一多晶硅薄膜层在所述电池片主体表面的投影在所述钝化接触区内。

2.如权利要求1所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,还包括设置在所述第一隧穿氧化层与所述电池片主体之间的第二隧穿氧化层、第二多晶硅薄膜层,所述第二隧穿氧化层、所述第二多晶硅薄膜层在所述电池片主体的投影同时覆盖所述钝化接触区、所述吸光区。

3.如权利要求2所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,所述第一隧穿氧化层、第二隧穿氧化层的厚度为5nm~50nm。

4.如权利要求3所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,所述第一多晶硅薄膜层的厚度为20nm~300nm。

5.如权利要求3所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,所述第二多晶硅薄膜层的厚度为5nm~50nm。

6.如权利要求5所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,所述第一隧穿氧化层的厚度与所述第二隧穿氧化层的厚度相等。

7.如权利要求6所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构,其特征在于,所述电池片主体为单面电池片主体或双面电池片主体。

8.一种光伏组件,其特征在于,包括电池片主体以及设置在所述电池片主体的如权利要求1-7任意一项所述光伏电池局部隧穿氧化层钝化接触结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司,未经浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922019213.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top