[实用新型]镀膜设备有效
申请号: | 201922021610.0 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN211339682U | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 张鹤;姚良;韩方虎;张良俊;王亨;李翔 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/54 |
代理公司: | 苏州佳博知识产权代理事务所(普通合伙) 32342 | 代理人: | 罗宏伟 |
地址: | 214028 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
1.一种镀膜设备,其特征在于:包括第一反应腔组(10)、第二反应腔组(20)、一个第一工艺泵(30)、一个第二工艺泵(40)及一个抽真空泵(50),所述第一反应腔组(10)包含相互独立的多个第一反应腔(11),所述第二反应腔组(20)包含相互独立的多个第二反应腔(21),多个所述第一反应腔(11)、所述第二反应腔(21)分别与一个所述抽真空泵(50)连接以共享所述抽真空泵(50),多个所述第一反应腔(11)分别与一个所述第一工艺泵(30)连接以共享所述第一工艺泵(30),多个所述第二反应腔(21)分别与一个所述第二工艺泵(40)连接以共享所述第二工艺泵(40)。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于:每个所述第一反应腔(11)与所述第二反应腔(21)内均放置载具,所述载具内放置待镀膜的物体。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于:所述第一工艺泵(30)与所述第二工艺泵(40)相互独立运行。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于:每个所述第一反应腔(11)与所述第二反应腔(21)均设有出气口和进料口,所述出气口连接所述抽真空泵(50),所述第一反应腔(11)的所述进料口连接所述第一工艺泵(30),所述第二反应腔(21)的所述进料口连接所述第二工艺泵(40)。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备,其特征在于:所述第一反应腔(11)和所述第二反应腔(21)的所述出气口与所述抽真空泵(50)之间分别设置有第一角阀(13)、第二角阀(23)以控制所述出气口的打开、闭合。
6.根据权利要求4所述的镀膜设备,其特征在于:所述第一反应腔(11)的所述进料口与对应所述第一工艺泵(30)之间设置有第三角阀(14)和第一蝶阀(15)以控制进料口的打开、闭合;所述第二反应腔(21)的所述进料口与对应所述第二工艺泵(40)之间设置有第四角阀(24)和第二蝶阀(25)以控制进料口的打开、闭合。
7.根据权利要求4所述的镀膜设备,其特征在于:所述第一工艺泵(30)和所述第二工艺泵(40)上均设有排出口,工艺气体从该排出口排出。
8.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于:所述抽真空泵(50)和所述第一工艺泵(30)、所述第二工艺泵(40)分开设置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的