[实用新型]镀膜设备

说明书

一种镀膜设备，其包括第一反应腔组、第二反应腔组、一个第一工艺泵、一个第二工艺泵及一个抽真空泵，所述第一反应腔组包含相互独立的多个第一反应腔，所述第二反应腔组包含相互独立的多个第二反应腔，多个所述第一反应腔、所述第二反应腔分别与一个所述抽真空泵连接以实现共享所述抽真空泵，多个所述第一反应腔分别与一个所述第一工艺泵连接以实现共享所述第一工艺泵，多个所述第二反应腔分别与一个所述第二工艺泵连接以实现共享所述第二工艺泵，降低了工艺泵的数量，大幅度降低设备成本。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜设备。

背景技术

原子层沉积(ALD，Atomic Layer Deposition)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法，薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD， Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。目前市场上的管式镀膜设备，一个反应腔搭配一个真空泵，真空泵价格昂贵，导致设备的整体成本很高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供了一种降低设备成本的镀膜设备

为实现前述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种镀膜设备，其包括第一反应腔组、第二反应腔组、一个第一工艺泵、一个第二工艺泵及一个抽真空泵，所述第一反应腔组包含相互独立的多个第一反应腔，所述第二反应腔组包含相互独立的多个第二反应腔，多个所述第一反应腔、所述第二反应腔分别与一个所述抽真空泵连接以实现共享所述抽真空泵，多个所述第一反应腔分别与一个所述第一工艺泵连接以实现共享所述第一工艺泵，多个所述第二反应腔分别与一个所述第二工艺泵连接以实现共享所述第二工艺泵。

进一步地，所述第一工艺泵与所述第二工艺泵相互独立运行。

进一步地，每个所述第一反应腔与所述第二反应腔均设有出气口和进料口，所述出气口连接所述抽真空泵，所述第一反应腔的所述进料口连接所述第一工艺泵，所述第二反应腔的所述进料口连接所述第二工艺泵。

进一步地，所述第一反应腔和所述第二反应腔的所述出气口与所述抽真空泵之间分别设置有第一角阀和第二角阀以控制所述出气口的打开、闭合。

进一步地，所述第一反应腔的所述进料口与对应所述第一工艺泵之间设置有第三角阀和第一蝶阀以控制进料口的打开、闭合；所述第二反应腔的所述进料口与对应所述第二工艺泵之间设置有第四角阀和第二蝶阀以控制进料口的打开、闭合。

进一步地，所述第一工艺泵和所述第二工艺泵上均设有排出口，工艺气体从该排出口排出。

进一步地，所述抽真空泵和所述第一工艺泵、所述第二工艺泵分开设置。

本实用新型镀膜设备中的第一反应腔组的多个第一反应腔共用一个第一工艺泵，第二反应腔组的多个第二反应腔共用一个第二工艺泵，如此设计，降低了工艺泵的数量，大幅度降低设备成本；多个第一反应腔和多个第二反应腔共享一个抽真空泵，减少了抽真空泵的数量，进一步降低了设备成本。

附图说明

图1为本实用新型镀膜设备的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。

下文描述中所述的“连接”等词，在没有特别说明的情况下，可以是直接连接，也可以是间接连接，即允许有第三方物质介入；可以是可拆卸式的连接，也可以是不可拆卸式的连接；术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语的限制，此术语仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。