[实用新型]一种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置有效
申请号: | 201922030084.4 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN210765503U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 冯林;李权;张军 | 申请(专利权)人: | 湖北天合光能有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人: | 杨文录 |
地址: | 433000 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 真空泵 尾排吹扫 装置 | ||
本实用新型公开的属于机械设备配件技术领域,具体为一种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置,包括弧形管、第一管道和弯管,所述弧形管的右侧壁固定连接所述第一管道,所述第一管道的左侧壁贯穿所述弧形管的内腔右侧壁后与所述弯管的右侧壁螺纹连接,该种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置,将装置用真空卡箍与管道密封连接,打开手动阀,足够压力的压缩空气可以将真空管道内的粉尘顺利地吹向燃烧桶,配合弯管,使吹风过程沿内壁弧形上升,可把底部沉积的粉尘同步清理,避免堆积,避免人工清理粉尘的人力消耗和粉尘污染问题,为真空泵提供了良好的抽风的环境,增加真空泵尾排抽风量,延长其使用寿命,减少大笔维修成本。
技术领域
本实用新型涉及机械设备配件技术领域,具体为一种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置。
背景技术
真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲,真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。
其中管式PECVD真空泵就是真空泵中的一个分类,PECVD技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的工艺气体,这些气体经一系列化学反应和等离子体反应,最终在样品表面形成固态薄膜,PECVD设备主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。
现有的真空泵尾排在面对粉尘堵塞情况的情况下,会产生影响抽风量的情况,需要人工进行情况,并在清理的过程中会产生粉尘污染,真空泵的抽风环境不理想,直接影响使用寿命,在维护过程中产生大量的资金浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置,以解决上述背景技术中提出的现有的真空泵尾排在面对粉尘堵塞情况的情况下,会产生影响抽风量的情况,需要人工进行情况,并在清理的过程中会产生粉尘污染,真空泵的抽风环境不理想,直接影响使用寿命,在维护过程中产生大量的资金浪费的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种管式PECVD真空泵尾排吹扫T型装置,包括弧形管、第一管道和弯管,所述弧形管的右侧壁固定连接所述第一管道,所述第一管道的左侧壁贯穿所述弧形管的内腔右侧壁后与所述弯管的右侧壁螺纹连接,所述弧形管的顶部一体成型连接有连接端,所述连接端的圆周外壁套接有真空卡箍,所述第一管道的右侧壁螺纹连接有第一法兰,所述第一法兰的输出端螺纹连接有手动阀,所述手动阀的顶部通过销轴连接有扳手,所述手动阀的右侧壁通过法兰连接有第二管道,所述第二管道的右侧壁螺纹连接有第二管道,所述第二管道的右侧壁螺纹连接有连接头,所述连接头的右侧壁一体成型连接有螺柱,所述螺柱的圆周外壁螺纹连接有气管连接头,所述气管连接头的右侧壁螺纹连接有气管,所述弯管的底部开设有喷气孔,所述喷气孔的圆周内壁镶嵌有内垫和外网垫。
优选的,所述弧形管的底部一体成型连接有圆弧底。
优选的,所述气管的材质为软性橡胶管,所述气管连接头与所述连接头的连接端套接有橡胶圈。
优选的,所述内垫的前侧壁开设有内垫孔,所述内垫孔均匀排列在所述内垫的左侧壁。
优选的,所述外网垫的圆周外壁粘接有外框,所述外框的圆周内壁粘接有金属丝网。
优选的,所述喷气孔的开口位置向下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北天合光能有限公司,未经湖北天合光能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922030084.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种便于安装的UV展示平板
- 下一篇:一种吸管
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的