[实用新型]一种镀膜装置

说明书

本实用新型一种镀膜装置，属于真空镀膜加工领域，本实用新型提供的一种镀膜装置，包括：连接架；第二遮蔽部件，第二遮蔽部件中部具有通孔；第一遮蔽部件，第一遮蔽部件小于所述通孔。桥架和支杆的组合方式增加了框体和遮挡部分间连接部件与加工面间的距离，从而可以在真空镀膜加工的过程中，利用镀膜伞架的快速转动使得蒸发材料‑遮挡物‑加工面间持续的位向变化，极大的削弱结构体对蒸发的遮蔽效果，不会使得镀膜区域分布不均匀甚至漏镀；其次，各部件的结构和组合方式设计科学，可通过调校保证尺寸精度，保证了非镀膜区域控制在误差范围内。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜加工领域，具体涉及一种镀膜装置。

背景技术

真空镀膜工装是光学零件在真空镀膜加工中必不可少的工具。其主要作用是在真空镀膜过程中，通过夹持的方式对加工中光学零件予以固定，同时通过结构设计达到特定的功能要求。

常见真空镀膜工装多为围栏形，以圆形和矩形最为常见。方案大多为以待加工的光学零件外形为基础设计外框，并根据有效孔径向零件中心内收设计担边。担边同时起着承担零件重量和分隔镀膜区域的功能。担边覆盖范围为遮蔽区，覆盖范围以内为镀膜区。

实用新型人在实现本发明实施例的过程中，发现背景技术中至少存在以下缺陷：

在要求的镀膜区域为环带，即中心为非镀膜区，外环为镀膜区域时，通常的光学零件镀膜工装设计方案已不能解决环带镀膜这样的特殊要求，加工的环带镀膜不连续，无法满足加工需要。

实用新型内容

本实用新型提供了一种镀膜装置，目的在于解决上述问题，解决在要求的镀膜区域为环带，即中心为非镀膜区，外环为镀膜区域时，通常的光学零件镀膜工装设计方案已不能解决环带镀膜这样的特殊要求，加工的环带镀膜不连续，无法满足加工需要的问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种镀膜装置，包括：

连接架；

第二遮蔽部件，第二遮蔽部件中部具有通孔；

第一遮蔽部件，第一遮蔽部件小于所述通孔；

第一遮蔽部件位于所述通孔内，第一遮蔽部件和第二遮蔽部件之间形成闭环间隙，连接架位于远离所述闭环间隙的一位置，连接架沿所述闭环间隙一端开口到另一端开口的方向，连接架分别向第一遮蔽部件和第二遮蔽部件延伸，第一遮蔽部件通过连接架和第二遮蔽部件连接。

所述连接架包括支杆、顶杆和桥架，支杆位于第二遮蔽部件底部，支杆位于所述闭环间隙外，支杆与所述闭环间隙一端开口到另一端开口的方向平行，顶杆位于第一遮蔽部件底部，顶杆位于所述闭环间隙外，顶杆与所述闭环间隙一端开口到另一端开口的方向平行，支杆一端与第二遮蔽部件连接，另一端与桥架连接，顶杆一端与第一遮蔽部件连接，另一端与桥架连接。

所述桥架具有第一支杆孔和第一中轴孔，第一支杆孔位于桥架端部，第一中轴孔位于桥架中部，第二遮蔽部件具有第二支杆孔，第二支杆孔位于第二遮蔽部件端部，支杆一端与第一支杆孔连接，另一端与第二支杆孔连接；第一遮蔽部件中心具有第二中轴孔，第一中轴孔通过顶杆与第二中轴孔连接。

所述第二遮蔽部件上具有两个第二支杆孔，两个第二支杆孔对称分布在第二遮蔽部件两侧。

所述第一中轴孔和顶杆之间还具有中轴，中轴分为圆柱本体、连接耳和半圆柱本体，所述圆柱本体一端和所述半圆柱本体一端固定，所述圆柱本体另一端和所述连接耳固定，沿所述圆柱本体的轴向方向，所述半圆柱本体的矩形表面中部具有半圆柱体状凹槽，所述圆柱本体和第一中轴孔间隙配合，所述圆柱本体通过底部通过所述连接耳与桥架固定连接；顶杆与中轴的连接一端为半圆柱体状,顶杆与中轴连接的一端与所述半圆柱体状凹槽形状匹配，顶杆与中轴连接的一端位于所述半圆柱体状凹槽内，顶杆外具有压板，所述半圆柱本体通过压板与顶杆固定连接。