[实用新型]一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备

权利要求书

1.一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，包括反应室(1)，反应室(1)内设置有竖直布置的热丝(2)和托板(3)，托板(3)用于固定电池硅片(4)，反应室(1)上设置有进气口(5)，其特征在于，进气口(5)连接有位于反应室(1)内的匀气板(6)，匀气板(6)内设有匀气腔(7)，匀气板(6)远离进气口(5)的一侧端设置有若干个连通反应室(1)与匀气腔(7)的出气孔(8)。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，其特征在于，进气口(5)设置在反应室(1)底部，反应室(1)顶部设置有排气口(9)。

3.根据权利要求2所述的一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，其特征在于，托板(3)设置有两个，热丝(2)位于两托板(3)之间，且热丝(2)与两托板(3)之间具有间隔空隙，进气口(5)和排气口(9)均位于两托板(3)之间。

4.根据权利要求3所述的一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，其特征在于，匀气板(6)顶部设置有两个对称布置的倾斜导气板(10)，两倾斜导气板(10)分别位于出气孔(8)两侧，倾斜导气板(10)用于将反应气体引导至两托板(3)之间。

5.根据权利要求1所述的一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，其特征在于，托板(3)侧壁设置有用于限制硅片产生位移的扣槽(11)，扣槽(11)对称设于电池硅片(4)的两条对边边缘。

6.根据权利要求1或5所述的一种太阳能电池硅片用匀气型薄膜沉积设备，其特征在于，托板(3)的材质为等静压石墨。