[实用新型]供气装置及膜片钳系统

说明书

本实用新型提供了一种供气装置，用于膜片钳系统中，包括气源、总气路和至少两个气体流量控制器，所述气源与所述总气路连接，所述总气路包括供气管路和与所述供气管路连接的至少两个供气支路，所述气体流量控制器设置在所述供气支路上，所述气体流量控制器用于控制通过所述供气支路的气体流量，以使所述供气装置为所述膜片钳系统提供稳定气体流量。本申请通过将气体流量控制器应用至膜片钳系统的供气装置中，更加精准的控制气体流量，避免气体流量的变化对膜片钳系统操作的影响和干扰，更有利于膜片钳系统的应用。

技术领域

本实用新型涉及供气装置技术领域，尤其涉及供气装置及膜片钳系统。

背景技术

膜片钳系统可以用来记录培养中的细胞，也可以记录急性分离的组织样本，甚至可以在体记录。其中，离体脑片膜片钳技术被广泛的应用于神经科学、药理学、生理学等众多领域。离体脑片即为急性分离的脑组织，通过震动切片机将脑组织切成片状，在一定的温度、pH、渗透压和通氧状态下，可以维持脑细胞的活性。

在脑片的急性分离步骤中，取脑用的人工脑脊液需要通入气体，孵育的过程中也需要持续通入气体，在之后膜片钳记录的过程中所需要用于灌流的人工脑脊液也需要提前通入气体。在实际的实验操作过程中，很容易出现同时需要多个通入混合气体的接口的情况。不过，在气瓶的减压阀不动的条件下，增加或减少通气接口的数量，容易导致单个通气接口处气体流量的改变，气体流量过大，会导致孵育槽中脑片随气泡带来的波动而浮动，不必要的扰动会影响脑片上细胞的活性，也会浪费不必要的气体。气体流量过小，又可能导致人工脑脊液中氧气含量较低，可能给细胞带来缺氧损伤。

实用新型内容

本实用新型提供了一种供气装置，用于膜片钳系统中，通过设置气体流量控制器，对通过单个供气支路的气体流量进行控制，更加精准的控制气体流量，避免气体流量的变化对膜片钳系统操作的影响和干扰，更有利于膜片钳系统的应用。

第一方面，本实用新型提供了一种供气装置，用于膜片钳系统中，包括气源、总气路和至少两个气体流量控制器，所述气源与所述总气路连接，所述总气路包括供气管路和与所述供气管路连接的至少两个供气支路，所述气体流量控制器设置在所述供气支路上，所述气体流量控制器用于控制通过所述供气支路的气体流量，以使所述供气装置为所述膜片钳系统提供稳定气体流量。

本实用新型通过设置气体流量控制器，严格控制通过供气支路的气体流量，使其不因供气支路的减少或增多、供气总量变化、气体压力变化等干扰发生变化，使得膜片钳系统在应用过程中可以产生更加稳定的气体输出，保证实验操作的进行，具体的，所述供气装置可以但不限于为用于离体脑片膜片钳技术中。

可选的，所述气体流量控制器包括检测单元、控制单元和调节单元，所述检测单元用于检测经过所述供气支路的气体流量信息，并将所述气体流量信息发送至所述控制单元，所述控制单元根据所述气体流量信息和预设流量信息向所述调节单元发送控制信号，所述调节单元根据所述控制信号调节经过所述供气支路的气体流量。

在本申请中，所述气体流量信息可以但不限于为气体压力、气体速度、气体流量等，所述预设流量信息可以但不限于为气体压力、气体速度、气体流量等。

可选的，当所述气体流量信息小于所述预设流量信息时，所述控制单元向所述调节单元发送第一控制信号，所述调节单元根据所述第一控制信号将经过所述供气支路的气体流量调大。

可选的，当所述气体流量信息大于所述预设流量信息时，所述控制单元向所述调节单元发送第二控制信号，所述调节单元根据所述第二控制信号将经过所述供气支路的气体流量调小。