[实用新型]一种等离子刻蚀机排风装置

说明书

本实用新型公开了一种等离子刻蚀机排风装置，包括进气管、分离管和支撑板，所述进气管顶端设置有分离管，分离管一侧设置有支撑板，支撑板上表面设置有电机，电机轴部连接有减速机，减速机连接有第二转轴，减速机一侧设置有驱动箱，第二转轴延伸至驱动箱内腔，所述第二转轴通过皮带传动结构连接有第一转轴，第一转轴延伸至分离管内腔，使用时，使得气体进入分离管中，由于第二转轴带动第一转轴转动，使得气体依次进入从分离管中排进导气管中，并经导气管进入壳体中，启动水泵，使得雾化喷头开始喷雾，从而对等离子刻蚀机产生的酸性气体进行气液两相充分接触吸收中和反应，酸雾废气经过净化后，再经集料槽脱水除雾后由风机排入大气。

技术领域

本实用新型涉及等离子刻蚀机技术领域，具体是一种等离子刻蚀机排风装置。

背景技术

等离子刻蚀机在使用中会产生酸性气体，影响硅片方阻的均匀性，使硅片的方阻过大，从而影响硅片的生产效率。

目前现有的等离子刻蚀机排风装置在使用时，不能的气体中产生的杂质进行隔离，使得杂质随气体一起排进大气中造成污染，且现有的等离子刻蚀机排风装置仅仅是将产生的气体进行排出，并没有对酸性气体进行中和反应，从而对环境产生了较大的危害，因此，本领域技术人员提供了一种等离子刻蚀机排风装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种等离子刻蚀机排风装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种等离子刻蚀机排风装置，包括进气管、分离管和支撑板，所述进气管顶端设置有分离管，分离管一侧设置有支撑板，支撑板上表面设置有电机，电机轴部连接有减速机，减速机连接有第二转轴，减速机一侧设置有驱动箱，第二转轴延伸至驱动箱内腔，所述第二转轴通过皮带传动结构连接有第一转轴，第一转轴延伸至分离管内腔，所述第一转轴盒第二转轴均通过轴承与驱动箱转动连接，所述分离管一侧设置有端盖，端盖通过螺栓与分离管固定连接，所述分离管为圆柱形结构，且分离管远离端盖一侧为封闭结构，所述第一转轴边侧设置有若干个均匀分布的隔板，隔板一侧与分离管内壁滑动连接；

所述分离管顶端设置有出气口，且出气口内腔设置有滤网，所述分离管顶端设置有导气管，导气管连接有壳体，所述壳体远离导气管一侧底部设置有固定板，固定板为L型结构，且固定板通过螺栓与壳体固定连接，固定板竖直部位设置有螺纹孔，所述壳体内腔设置有水槽，水槽上方设置有集料槽，集料槽内腔设置有填料，且集料槽为网状透气结构，所述集料槽两侧均设置有滑块，壳体内壁与滑块对应设置有滑槽，滑块与滑槽滑动连接；

所述水槽内腔设置有隔网，隔网内设置有吸水罩，吸水罩连接有水管，水管延伸至壳体外侧病设置有水泵，且水管顶端延伸至壳体内腔上方并设置有雾化器，雾化器位于集料槽上方，且雾化器底部设置有若干个均匀分布的雾化喷头，所述壳体顶端设置有风机，风机顶端设置有排气管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过设置的分离管、隔板、滤网的作用下，使得气体在分离管中反复滚动，从而使得气体缓慢有序的离开分离管中，从而便于对气体中的杂质颗粒进行分离，通过气体缓慢的离开分离管，便于在壳体中，气体均匀的分散开，从而有利于水雾对等离子刻蚀机产生的酸性气体进行中和反应，使得反应的更加彻底，从而有利于气体的净化。

2、通过设置端盖与分离管可拆卸安装，便于对分离管中截留的杂质颗粒进行清洁，从而节省了人们的劳动强度，提高了工作效率，适合适合广泛使用。

附图说明

图1为一种等离子刻蚀机排风装置的结构示意图。

图2为一种等离子刻蚀机排风装置中壳体的结构示意图。

图3为一种等离子刻蚀机排风装置中分离管的结构示意图。