[实用新型]一种离子注入设备

权利要求书

1.一种离子注入设备，其特征在于，包括对位装置、传送装置、离子注入装置以及相连通的对位腔室和制程腔室，所述离子注入装置与所述制程腔室相连通，其中

所述对位装置用于装载掩膜板，以带动所述掩膜板在所述对位腔室内与待掺杂基板进行对位，并在完成对位后将所述掩膜板放置在所述传送装置上以及在完成离子注入后将放置在所述传送装置上的掩膜板取走；

所述传送装置用于装载所述待掺杂基板，以带动完成对位的所述待掺杂基板和掩膜板一起在所述对位腔室和制程腔室之间移动；

所述离子注入装置用于向所述制程腔室内发射离子束，以透过所述掩膜板对所述待掺杂基板进行离子注入。

2.根据权利要求1所述的离子注入设备，其特征在于，所述对位装置包括对位移动机构和设于所述对位移动机构上的抓取机构和对位感测机构，其中

所述对位移动机构用于带动所述抓取机构和对位感测机构在XY平面上平移和在Z方向上升降，XY平面平行于所述待掺杂基板的基板平面，Z方向垂直于所述待掺杂基板的基板平面；

所述抓取机构用于抓取所述掩膜板；

所述对位感测机构用于对所述掩膜板和待掺杂基板之间的对位标进行识别对位。

3.根据权利要求2所述的离子注入设备，其特征在于，所述抓取机构包括若干吸盘和/或若干电磁铁。

4.根据权利要求2所述的离子注入设备，其特征在于，所述对位感测机构包括若干对位摄像头和/或若干对位传感器。

5.根据权利要求1所述的离子注入设备，其特征在于，所述传送装置包括传送移动机构和设于所述传送移动机构上的载具机构和锁定机构，其中

所述传送移动机构用于带动所述载具机构和锁定机构在所述对位腔室和制程腔室之间移动；

所述载具机构用于承载所述待掺杂基板；

所述锁定机构用于锁定所述掩膜板在所述载具机构上的相对位置。

6.根据权利要求5所述的离子注入设备，其特征在于，所述载具机构用于具有放置所述待掺杂基板的承载凹槽以及用于支撑所述掩膜板以使所述掩膜板与所述待掺杂基板保持一定间距的外围凸起。

7.根据权利要求5所述的离子注入设备，其特征在于，所述锁定机构包括自锁扣和连接驱动所述自锁扣解锁的解锁驱动结构。

8.根据权利要求1-7中任一所述的离子注入设备，其特征在于，还包括与所述对位腔室相连通的载板腔室，所述对位装置还用于带动所述掩膜板在所述载板腔室和对位腔室之间移动。

9.根据权利要求1-7中任一所述的离子注入设备，其特征在于，还包括与所述对位腔室相连通的载片腔室，所述传送装置还用于带动所述待掺杂基板在所述载片腔室和对位腔室之间移动。

10.根据权利要求1-7中任一所述的离子注入设备，其特征在于，所述掩膜板具有开口区和非开口区，所述待掺杂基板具有掺杂区和非掺杂区，所述开口区与所述掺杂区对齐，所述非开口区与所述非掺杂区对齐。