[实用新型]一种掩膜版用的曝光补偿装置有效
| 申请号： | 201922098140.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN210626879U | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 叶小龙;王栋 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 彭家恩;郭燕 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版用 曝光 补偿 装置 | ||
1.一种掩膜版用的曝光补偿装置，其特征在于，包括承载板，所述承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，所述承载板的另一侧具有承载面，所述承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。
2.如权利要求1所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述承载板具有贯通的吸气孔，用于与负压源连通，以通过负压固定承载板上的斜面掩膜版。
3.如权利要求2所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述吸气孔设置在承载板的中心。
4.如权利要求2所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述承载板用于与斜面掩膜版接触的一侧具有吸气槽，所述吸气槽与吸气孔连通。
5.如权利要求4所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述吸气槽设置有两条，所述两条吸气槽交叉设置。
6.如权利要求5所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述两条吸气槽的交叉点位于承载板的中心，所述吸气孔位于两条吸气槽的交叉点。
7.如权利要求1-6任一项所述的曝光补偿装置，其特征在于，还包括阻拦板，所述阻拦板沿承载板的周向凸起设置，用于限制斜面掩膜版不在承载板上运动。
8.如权利要求7所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述阻拦板的内侧壁具有导向斜面，用于对斜面掩膜版沿垂直于承载板方向的运动起导向作用。
9.如权利要求7所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述承载板和阻拦板为一体成型的结构。
10.如权利要求1-6任一项所述的曝光补偿装置，其特征在于，所述承载板为矩形板。
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