[实用新型]一种掩膜版用的曝光补偿装置

说明书

本申请公开了一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台。

技术领域

本申请涉及掩膜版技术领域，特别涉及一种掩膜版用的曝光补偿装置。

背景技术

掩膜版为一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的介质载板。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。

在对掩膜版进行曝光时，需要使用光刻机将掩膜版原材料表面的感光胶进行感光处理，从而获得预期掩膜图形。在进行曝光时，光刻机的镜头聚焦到掩膜版上并水平移动，实现对掩膜版原材料的整个表面的曝光。但是，在对异形掩膜版进行曝光时，例如，在对斜面掩膜版进行曝光时，常出现曝光后掩膜版上图形质量不合格的情况。

发明内容

本申请提供一种掩膜版用的曝光补偿装置，用以解决斜面掩膜版曝光后图形质量异常的问题。

本申请所提供的一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，所述承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，所述承载板的另一侧具有承载面，所述承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板具有贯通的吸气孔，用于与负压源连通，以通过负压固定承载板上的斜面掩膜版。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述吸气孔设置在承载板的中心。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板用于与斜面掩膜版接触的一侧具有吸气槽，所述吸气槽与吸气孔连通。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述吸气槽设置有两条，所述两条吸气槽交叉设置。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述两条吸气槽的交叉点位于承载板的中心，所述吸气孔位于两条吸气槽的交叉点。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，还包括阻拦板，所述阻拦板沿承载板的周向凸起设置，用于限制斜面掩膜版不在承载板上运动。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述阻拦板的内侧壁具有导向斜面，用于对斜面掩膜版沿垂直于承载板方向的运动起导向作用。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板和阻拦板为一体成型的结构。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板为矩形板。

本申请的有益效果：

本申请所提供的一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台，在曝光过程中，光刻机镜头与掩膜版上表面的距离保持恒定，从而保证了掩模板的曝光效果，使得曝光后掩模板上图形的质量合格。

附图说明