[实用新型]湿制程用清洁机构

权利要求书

1.一种湿制程用清洁机构，清洁机构(100)能配合湿制程设备(200)应用，其特征在于：

所述清洁机构(100)至少包括有配合所述湿制程设备(200)设置的一机器臂机构(1)及一清洁头组(2)；

所述机器臂机构(1)至少包含有一水平位移机构(11)、一垂直位移机构(12)、一机器臂(13)及一快速公接头(14)，所述水平位移机构(11)设于所述湿制程设备(200)后侧处，所述垂直位移机构(12)设于所述水平位移机构(11)顶侧面处，并能被其所带动而位移，所述机器臂(13)设于所述垂直位移机构(12)前侧处，能被其所带动而位移，所述快速公接头(14)设于所述机器臂(13)自由端处；

所述清洁头组(2)至少包含有排列设置于所述湿制程设备(200)邻近于所述机器臂机构(1)一侧处的一水清洗头(21)、一药液清洁头(22)及一干燥头(23)，所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)均设有一位于各头顶端处的快速母接头(24)，所述水清洗头(21)能调整喷水角度，所述快速母接头(24)能与所述快速公接头(14)配合，使所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)均能被所述机器臂机构(1)分别提起带动位移。

2.根据权利要求1所述的湿制程用清洁机构，其特征在于：位于所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)的所述快速母接头(24)底端处，还分别设有一定位部(25)；

所述清洁头组(2)，还包括有一定位盘组(26)，所述定位盘组(26)还包含有一托盘(261)及间距各不相同且排列定位于所述托盘(261)内的一第一架体(262)、一第二架体(263)及一第三架体(264)，所述第一架体(262)能与所述水清洗头(21)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述水清洗头(21)，所述第二架体(263)能与所述药液清洁头(22)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述药液清洁头(22)，所述第三架体(264)能与所述干燥头(23)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述干燥头(23)。

3.根据权利要求2所述的湿制程用清洁机构，其特征在于：所述机器臂(13)还具有与所述垂直位移机构(12)连接的一第一转臂(131)、一枢设于所述第一转臂(131)自由端处的第二转臂(132)及一枢设于所述第二转臂(132)自由端处的第三转臂(133)，所述第三转臂(133)自由端与所述快速公接头(14)连接。