[实用新型]一种用于反应室的晶片传动装置

权利要求书

1.一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，包括反应室和搬运室；所述反应室与搬运室均为内部中空的方形腔体结构，二者之间通过闸阀连通，反应室内设有晶片支撑部件，搬运室内设有机械传送部件；

所述晶片支撑部件包括内环基座和外环基座；所述内环基座主体为圆盘，圆盘下端面设有同心凸台，内环基座整体纵向横截面呈T型；所述外环基座呈圆环型，所述外环基座的内圈为台阶状，内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配，所述内环基座嵌设于外环基座内；所述内环基座下方设有内环支撑架，内环支撑架与升降机构相连；所述外环基座下方设有外环支撑架，外环支撑架与旋转机构相连；所述内环基座、外环基座、内环支撑架和外环支撑架为同轴心放置；

所述机械传送部件包括操作元件，所述操作元件呈U型，前端为缺口端，后端与设于搬运室内的传送臂相连。

2.根据权利要求1所述的一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，所述外环支撑架包括支撑管，支撑管下端与旋转机构相连；支撑管顶端通过至少三个臂支撑所述外环基座下端面。

3.根据权利要求1所述的一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，所述内环支撑架包括支撑管，支撑管下端与升降机构相连；支撑管顶端有至少三个臂且在所述内环基座正下方，所述内环支撑架的臂的上端面与所述内环基座的下端面悬空。

4.根据权利要求1所述的一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，所述操作元件的U型缺口宽度大于所述内环基座外缘的直径，所述操作元件的U型缺口宽度小于晶片的直径。

5.根据权利要求1所述的一种用于反应室的晶片传动装置，其特征在于，所述升降机构安装在旋转机构上，旋转机构可带动外环支撑架、外环基座、内环支撑架、内环基座和升降机构同时旋转。