[实用新型]晶圆承载装置

说明书

本实用新型提供一种晶圆承载装置，设置在反应腔室中，所述反应腔室内设置有主轨道及辅助轨道，所述辅助轨道设置在所述主轨道下方，晶圆承载装置包括：主载台，可滑动地设置在主轨道上，主载台能够沿一个或多个方向运动；辅助载台，设置在主载台下方，且辅助载台可滑动地设置在辅助轨道上，辅助载台能够沿一个或多个方向运动，辅助载台的运动方向与主载台的运动方向相反；控制器，用于检测主载台的运动方向，并根据主载台的运动方向控制辅助载台的运动方向；承载台，用于承载晶圆，承载台设置在主载台上，且与主载台可转动连接，当承载台旋转而带动主载台运动时，辅助载台与主载台做同步反向运动，以调平反应腔室。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种晶圆承载装置。

背景技术

通常，当晶圆在反应腔室内进行外延生长或者曝光等工艺时，要求晶圆在晶圆载台的带动下能够在反应腔室内水平高速旋转。晶圆载台的高速运作会带来反应腔室的倾斜和晃动，需要对反应腔室进行调节，以使晶圆能够水平旋转。

目前，在某些设备上采用空气开关(air-switch)来对反应腔室进行调平。其缺点在于，如果晶圆载台运动幅度过大，反应腔室倾斜的幅度也就更大，这会对空气开关和气缸造成损伤，另外，反应腔室倾斜的幅度过大极有可能触发设备的红外传感器，而导致设备宕机。若触发红外传感器而导致设备宕机，则就必须调节红外传感器的位置，使设备能够重新工作，而红外传感器的位置不易调节，调节过程需要3小时或者更长，严重影响设备机台的产量。

因此，如何避免反应腔室倾斜的幅度过大成为目前亟需解决的问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种晶圆承载装置，其能够避免反应腔室倾斜的幅度过大，维持所述反应腔室的水平。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种晶圆承载装置，设置在反应腔室中，所述反应腔室内设置有主轨道及辅助轨道，所述辅助轨道设置在所述主轨道下方，所述晶圆承载装置包括：主载台，可滑动地设置在所述主轨道上，所述主载台能够沿一个或多个方向运动；辅助载台，设置在所述主载台下方，且所述辅助载台可滑动地设置在所述辅助轨道上，所述辅助载台能够沿一个或多个方向运动，所述辅助载台的运动方向与所述主载台的运动方向相反；控制器，用于检测所述主载台的运动方向，并根据所述主载台的运动方向控制所述辅助载台的运动方向；承载台，用于承载晶圆，所述承载台设置在所述主载台上，且与所述主载台可转动连接，当所述承载台旋转而带动所述主载台运动时，所述辅助载台与所述主载台做同步反向运动，以调平所述反应腔室。

进一步，所述主轨道与所述辅助轨道平行。

进一步，所述主轨道及所述辅助轨道均由两条并行设置的轨道组成。

进一步，所述主载台与所述承载台共同具有第一中心，所述辅助载台具有第二中心，所述第一中心与所述第二中心在同一直线上。

进一步，所述辅助载台的运动行程与所述主载台的运动行程相同。

进一步，所述辅助载台的运动速率与所述主载台的运动速率相同。

进一步，所述主载台重量与所述承载台重量之和与所述辅助载台的重量相等。

进一步，所述主载台包括：第一滑动块，设置在所述主轨道上，且能够沿所述主轨道向第一方向运动，所述第一滑动块的顶面具有第一滑动轨道，所述第一滑动轨道的延伸方向与所述主轨道的延伸方向不同；第二滑动块，设置在所述第一滑动轨道上，且能够沿所述第一滑动轨道向第二方向运动，所述第一方向与所述第二方向不同，所述承载台可转动地设置在所述第二滑动块上。

进一步，所述第一方向与所述第二方向垂直。

进一步，所述第一滑动块底面具有第一滑槽，所述第一滑槽与所述主轨道配合，以使所述第一滑动块能够沿所述主轨道向所述第一方向运动。