[实用新型]一种具有特殊结构的精密抛光膜有效
| 申请号： | 201922152757.3 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN211332804U | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 方红;张航海;卞振伟 | 申请（专利权）人： | 东莞金太阳研磨股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 李慧 |
| 地址： | 523820 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 特殊 结构 精密 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。
2.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm。
3.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1。
4.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述密纹区和疏纹区均呈条纹状。
5.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种。
6.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述基材层的厚度为50-200μm。
7.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述涂层的密纹区的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍。
8.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述涂层的疏纹区的最低处厚度b为磨料粒径的1-1.5倍。
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