[实用新型]一种具有特殊结构的精密抛光膜

说明书

本实用新型涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜，该精密抛光膜包括基材层和设置于基材层表面的涂层，涂层中分布有磨料，涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。本实用新型的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的磨屑又可以通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免打磨工件出现划伤、凹痕等现象，实用性高。

技术领域

本实用新型涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜。

背景技术

目前的精密抛光产品中，行业内一般的精密抛光膜是平整且磨料是均匀分布的，这种表面纯平的抛光膜虽然抛光Ra值比较小，但是抛光速率较低，不适合对抛光速率要求高的工艺。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本实用新型的目的在于提供一种具有特殊结构的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，能有效提高抛光膜的抛光效率，实用性高。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：一种具有特殊结构的精密抛光膜，包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度。

进一步地，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm。

进一步地，所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1。

进一步地，所述密纹区和疏纹区均呈条纹状。

进一步地，所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种。

进一步地，所述基材层的厚度为50-200μm。

进一步地，所述涂层的密纹区的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍。

进一步地，所述涂层的疏纹区的最低处厚度b为磨料粒径的1-1.5倍。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的工件磨屑又可以通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象，实用性高。

附图说明

图1是本实用新型所述涂层的结构示意图；

图2是本实用新型的局部截面剖视图。

附图标记为：1—基材层、2—涂层、21—密纹区、22—疏纹区。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1-2对本实用新型作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

见图1-2，一种具有特殊结构的精密抛光膜，包括基材层1和设置于所述基材层1表面的涂层2，所述涂层2中分布有磨料，所述涂层2包括间隔设置的密纹区21和疏纹区22，所述密纹区21的磨料分布密度大于疏纹区22的磨料分布密度。