[实用新型]一种曝光机有效

专利信息
申请号: 201922158848.8 申请日: 2019-12-05
公开(公告)号: CN210803974U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 刘栋;张雷 申请(专利权)人: 源能智创(江苏)半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215399 江苏省苏州市昆山市玉*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光
【说明书】:

一种曝光机,其包括运动平台、对位机构和曝光机构,所述对位机构和曝光机构置于所述运动平台的上方,所述运动平台包括运动机构和基板台面,所述基板台面设置有至少一可拆卸的中间标尺。所述曝光机相对于双台面曝光机有效提升了曝光产能,并极大提升了生产超大尺寸板的产能,同时得益于单台面设计,生产超大尺寸板的精度比双台面更高。

技术领域

发明涉及激光直写式曝光机技术领域,具体是一种既适用于拼板曝光又适用于大板曝光的曝光机。

背景技术

激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图,相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术,直写式曝光技术产能高,对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。

目前市场上直写曝光多以单台面或双台面曝光机为主。单台面曝光产能较慢,每一片板曝光需要完成上板,对准,曝光,下板等工序,整个流程时间较长。双台面曝光机两个台面要分开曝光,效率也不是很高,并且在生产超大尺寸板是,效率特别低。而曝光产能又是客户需求的一项重要指标,提高直写曝光机的产能非常重要。本发明使用超大尺寸的工作台面取代双台面,可以同时曝光两块内层板或者一块超大尺寸内层板,从而有效提升产能。

发明内容

本发明目的是为了提供一种既适用于拼板曝光又适用于大板曝光的曝光机。

为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案为:一种曝光机,其包括运动平台、对位机构和曝光机构,所述对位机构和曝光机构置于所述运动平台的上方,所述运动平台包括运动机构和基板台面,所述基板台面设置有至少一可拆卸的中间标尺。

进一步的,所述中间标尺垂直设置或水平设置或既垂直设置又水平设置。

进一步的,所述中间标尺通过磁铁固定于所述基板台面

进一步的,所述中间标尺通过卡扣的机械结构固定于所述基板台面。

进一步的,所述曝光机构固定设置,覆盖基板台面的全部区域。

进一步的,所述基板台面与所述运动机构之间设置有支撑板。

进一步的,所述支撑板位于所述基板台面的中心位置。

进一步的,所述对位机构包括设置于两侧滑动设置的对位相机和位于中间的对位相机,所述中间的对位相机可同时抓取相邻基板的内层对位标记。

进一步的,所述中间的对位相机固定设置或滑动设置。

进一步的,所述中间的对位相机包括依次连接的相机、镜头和光源,所述相机和所述镜头的数量为两个,一组镜头和相机连接构成第一对准件,另一组镜头和相机连接构成第二对准件,第一对准件和第二对准件并列排列,并彼此相接或者具有微小间隙,所述光源邻接所述第一对准件和所述第二对准件的镜头,覆盖所述第一对准件和所述第二对准件镜头的轮廓范围。

本发明有益效果:本发明相比于双台面设备,有效提升了曝光产能,并极大提升了生产超大尺寸板的产能,同时得益于单工作台面设计,生产超大尺寸板的精度比双台面更高。

附图说明

图1为曝光机结构示意图。

图2为基板台面底部结构示意图。

图3为基板台面拼板模式示意图。

图4为基板台面超大板模式示意图。

图5为位于中间的对位相机的示意图。

图6为曝光基板对比流程图。

图7为曝光超大尺寸基板对比流程图。

具体实施方式

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