[实用新型]一种散射法比浊测量装置

权利要求书

1.一种散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置包括光源、光束整形组件、反应池、散射信号采集器以及阀基座；

所述光源用于发出光线；

所述光束整形组件设置于所述光源发出光线的光路中，用于调整所述光源发出的光线，并将调整后的光线入射至所述反应池；

所述反应池设置在所述光束整形组件后的光路上，当所述反应池中收容有待测物时，所述入射至所述反应池的光线经过所述反应池时形成直射的透射光及散射的散射光；

所述散射信号采集器在所述散射光的光路上，用于接收所述散射光以及检测所述散射光信号；

所述阀基座设置在所述透射光的光路上，所述阀基座为安装有用于控制液体管路的阀的基座，所述液体管路与所述反应池连通以用于向所述反应池输送液体，所述阀基座用于将所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置，所述透射光反射出所述散射法比浊测量装置的方向偏离所述光源发出的光线以及所述散射光的方向。

2.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述阀基座包括至少一个基座表面，所述反应池出射的透射光发射至所述基座表面，自所述反应池出射的透射光发射到所述基座表面的入射角不等于90度。

3.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置外还设有用于对其进行保温的保温层结构，且至少部分所述保温层结构设置在所述阀基座反射出的透射光的光路上，用于吸收被所述阀基座反射出的透射光。

4.如权利要求3所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述保温层结构为具有多孔结构的保温棉。

5.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述反应池包括第一侧壁，自所述光束整形组件出射的光线发射至所述第一侧壁，并从所述第一侧壁入射至所述反应池，且自所述光束整形组件出射的光线发射到所述第一侧壁的入射角不等于90度。

6.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件包括准直透镜，所述准直透镜包括靠近所述光源的第一表面，所述第一表面为向所述光源方向凸出的曲面结构。

7.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述第一表面设置有减反膜。

8.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光源发出的光线的中心光线入射至所述准直透镜的第一表面的入射角不等于90°。

9.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件还包括光斑限制光阑，所述光斑限制光阑设置在所述准直透镜与所述反应池之间，所述光斑限制光阑用于控制照射到所述反应池的光斑大小。

10.如权利要求9所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光斑限制光阑的通光孔径为1.5-3.2mm。

11.如权利要求9所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光斑限制光阑在光轴方向上的长度大于5mm。

12.如权利要求6所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述光束整形组件还包括小孔光阑，所述小孔光阑设置在所述光源和所述准直透镜之间，所述小孔光阑用于限制入射到所述准直透镜的光束大小。

13.如权利要求1所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述散射法比浊测量装置还包括相干光处理器件，所述相干光处理器件设置在反射光反射回所述光源的光路中，所述相干光处理器件用于将反射回所述光源的反射光进行光相位调制。

14.如权利要求13所述的散射法比浊测量装置，其特征在于，所述相干光处理器件设置在所述光源和所述光束整形组件之间。