[实用新型]衬底台、光刻设备和液体限制系统

权利要求书

1.一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中；和衬底保持器，配置成保持所述衬底，其特征是，所述衬底台包括：

电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。

2.根据权利要求1所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置在所述衬底保持器和地面之间和/或在所述液体限制系统和地面之间提供大于100kΩ的阻抗。

3.根据权利要求2所述的衬底台，其特征是，所述阻抗大于10MΩ。

4.根据权利要求2所述的衬底台，其特征是，所述阻抗是可变的，并且所述电流控制装置还包括用以控制所述阻抗的控制器。

5.根据权利要求1所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置包括电源，所述电源连接至以下中的至少一个：所述衬底保持器、所述衬底台和所述液体限制系统。

6.根据权利要求5所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置还包括：

电流检测器，所述电流检测器检测所述衬底保持器和地面之间和/或所述液体限制系统和地面之间的电流；和

控制器，所述控制器基于电流的检测控制所述电源。

7.根据权利要求4所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置还包括电流检测器，所述电流检测器检测所述衬底保持器和地面之间和/或所述液体限制系统和地面之间的电流，所述控制器配置成基于电流的检测控制所述阻抗。

8.根据权利要求5所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置还包括：

电压传感器，所述电压传感器测量所述衬底、所述衬底保持器和/或所述液体限制系统的一部分的电势；和

控制器，所述控制器基于测量的电势控制所述电源。

9.根据权利要求4所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置还包括电压传感器，所述电压传感器测量所述衬底、所述衬底保持器和/或所述液体限制系统的一部分的电势，所述控制器配置成基于测量的电势控制所述阻抗。

10.根据权利要求8所述的衬底台，其特征是，所述电压传感器布置成测量所述衬底的下表面的电势；并且所述电源连接至所述衬底保持器或所述衬底台。

11.根据权利要求9所述的衬底台，其特征是，所述电压传感器布置成测量所述衬底的下表面的电势；并且所述电流控制装置包括电源，所述电源连接至所述衬底保持器或所述衬底台。

12.根据权利要求8所述的衬底台，其特征是，所述电压传感器布置成测量所述衬底的上表面的电势；并且所述电源连接至所述液体限制系统。

13.根据权利要求9所述的衬底台，其特征是，所述电压传感器布置成测量所述衬底的上表面的电势；并且所述电流控制装置包括电源，所述电源连接至所述液体限制系统。

14.根据权利要求1-13中任一项所述的衬底台，其特征是，所述衬底台还包括电加热器，配置成加热所述衬底的至少一部分，其中所述电流控制装置包括接地屏蔽件，所述接地屏蔽件布置在所述电加热器和所述衬底保持器之间。

15.根据权利要求1-13中任一项所述的衬底台，其特征是，所述电流控制装置包括导体，所述导体配置成接触所述衬底以在所述衬底和地面之间提供直接的电气路径。

16.根据权利要求15所述的衬底台，其特征是，所述导体包括突节，所述突节具有硬导电涂层而没有绝缘外层。