[实用新型]一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件

说明书

本实用新型涉及一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，包括与氢气输入端相连的进气阀，所述的进气阀同时连接静态气路和载气气路，所述的静态气路上设置有静态手动阀、静态常开气动阀和静态调压阀，所述的载气气路上设置有常闭气动阀和载气调压阀，所述的静态气路和载气气路同时通入到气源钢瓶中。本实用新型通过设置两个气路，实现动态和静态压力的自动切换，保持动态和静态压力为同一数值，从而达到硅源浓度稳定的目的。

技术领域

本实用新型涉及硅片生产领域，特别是涉及一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件。

背景技术

现在在外延片的生产中需要用到外延炉，需要将氢气和三氯氢硅(TCS)通入到气源钢瓶中进行鼓泡蒸发，蒸发后的饱和气体硅源再通入到外延炉中，据拉乌尔定律，压力是决定浓度的主要因素；为稳定浓度，控制稳定的压力可有效改善硅源的浓度稳定性，而提高外延片厚度稳定，需要提高硅源浓度稳定性，硅源浓度稳定主要受载气压力影响，在实际使用过程中，载气动态和静态压力会引起硅源浓度变化，这种浓度的变化主要是氢气的进气压力造成的。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，通过设置两个气路，实现动态和静态压力的自动切换，保持动态和静态压力为同一数值，从而达到硅源浓度稳定的目的。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，包括与氢气输入端相连的进气阀，所述的进气阀同时连接静态气路和载气气路，所述的静态气路上设置有静态手动阀、静态常开气动阀和静态调压阀，所述的载气气路上设置有常闭气动阀和载气调压阀，所述的静态气路和载气气路同时通入到气源钢瓶中。

进一步的，所述的静态调压阀的调压数值为20PSI，所述的载气调压阀的调压数值为25PSI。

有益效果：本实用新型涉及一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，通过设置两个气路，实现动态和静态压力的自动切换，保持动态和静态压力为同一数值，从而达到硅源浓度稳定的目的。

附图说明

图1是本实用新型的气路结构图；

图2是本实用新型的改进前后的外延片厚度变化示意图。

图示：1、进气阀，2、静态手动阀，3、静态常开气动阀，4、静态调压阀，5、常闭气动阀，6、载气调压阀。

具体实施方式

下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解，在阅读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

如图1-2所示，本实用新型的实施方式涉及一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，包括与氢气输入端相连的进气阀1，所述的进气阀1同时连接静态气路和载气气路，所述的静态气路上设置有静态手动阀2、静态常开气动阀3和静态调压阀4，所述的载气气路上设置有常闭气动阀5和载气调压阀6，所述的静态气路和载气气路同时通入到气源钢瓶中。

使用前将所述的静态调压阀4的调压数值为20PSI，所述的载气调压阀6的调压数值为25PSI。

作为本实用新型的一种实施例，使用时和设备联动，用常闭气动阀5驱动打开载气气路，而实际流动时气压压力下降至20Psi，通入到气源钢瓶中的氢气气压为20Psi。

而不使用设备时，氢气的进气气路切换至静态气路，保证管道内浓度都是20Psi浓度。根据拉乌尔定律，浓度和压力正比关系，可以通过控制压力稳定有效控制浓度稳定。

从图2中可以看到，采用本专利所述的阀门组件后的外延片的厚度波动明显减少。

本实用新型通过设置两个气路，实现动态和静态压力的自动切换，保持动态和静态压力为同一数值，从而达到硅源浓度稳定的目的。