[实用新型]减少聚合物沉积的设备

权利要求书

1.一种衬底支撑组件，其特征在于，包括：

静电吸盘，所述静电吸盘包括第一凹陷，所述第一凹陷形成在所述静电吸盘的上部分中；以及

工艺配件，所述工艺配件环绕所述静电吸盘，其中所述工艺配件包括：

内环；以及

外环，所述外环设置在所述内环的径向外侧，其中所述外环包括第二凹陷，所述第二凹陷形成在所述外环的上部分中，并且所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑，使得所述内环的上表面和所述外环的上表面是共面的。

2.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述内环由硅制成。

3.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述外环由石英制成。

4.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述内环的所述上表面具有围绕所述内环的圆周对称地设置的多个突起。

5.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其特征在于，还包括：

泵送环，所述泵送环设置在所述外环上方。

6.如权利要求5所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述泵送环具有多个突起，所述多个突起设置在所述泵送环的底表面处。

7.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述第一凹陷的顶表面和所述第二凹陷的顶表面处于相同高度。

8.一种用于处理衬底的衬底支撑组件，其特征在于，所述衬底支撑组件包括：

衬底支撑件；

静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述衬底支撑件上，其中所述静电吸盘包括第一凹陷，所述第一凹陷形成在所述静电吸盘的上部分中；以及

工艺配件，所述工艺配件环绕所述静电吸盘，其中所述工艺配件包括：

内环；

外环，所述外环设置在所述内环的径向外侧，其中所述外环包括第二凹陷，所述第二凹陷形成在所述外环的上部分中，其中所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑，并且所述外环的上表面高于所述内环的上表面；以及

多个泵送通道，所述多个泵送通道穿过所述外环形成，其中所述泵送通道朝着远离所述内环的方向向下地成角度。

9.如权利要求8所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述内环由硅制成。

10.如权利要求8所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述外环由石英制成。

11.如权利要求8所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述内环的所述上表面具有多个突起，所述多个突起围绕所述内环的圆周对称地设置。

12.如权利要求8所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述泵送通道的纵向方向相对于沿着所述外环的外周表面延伸的方向成角度。

13.如权利要求12所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述角度在约30度至约88度的范围内。

14.如权利要求8所述的衬底支撑组件，其特征在于，还包括：

盖环，所述盖环设置在所述外环上方。

15.如权利要求14所述的衬底支撑组件，其特征在于，所述盖环由石英或硅制成。