[实用新型]一种磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201922217023.9 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN211311573U | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 夏伟;张兵;郑建军;张成金;姚仕军;方添志;赵帅 | 申请（专利权）人： | 天津美泰真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 天津合正知识产权代理有限公司 12229 | 代理人： | 孟令琨 |
| 地址： | 301609 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 装置 | ||
1.一种磁控溅射装置，包括设置在真空腔室内的靶材和基板；其特征在于：所述靶材由驱动单元驱动，以实现圆周方向的转动和长度方向的来回移动；
所述驱动单元与靶材间通过过渡轴连接，在过渡轴上设有设有感应区，在真空室内壁上对应感应器设有接近开关，当靶材来回移动到达感应区的近端测点和远端测点处，接近开关分别反馈给驱动单元换向信号；
所述近端测点处设有近端凸起环，在远端测点处设有远端凸起环；所述近端凸起环处于过渡轴上靠近靶材的一端。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述近端凸起环以及远端凸起环均环绕过渡轴外圆周一周。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述近端凸起环以及远端凸起环的凸起高度均小于靶材外缘。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述驱动单元包括直线驱动机构以及由直线驱动机构驱动的转动驱动机构；所述转动驱动机构驱动过渡轴转动。
5.根据权利要求4所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述转动驱动机构包括伺服电机，该伺服电机输出轴段通过联轴器与过渡轴连接，且该伺服电机安装在过渡座上，所述过渡座由直线驱动机构驱动在靶材长度方向上来回移动。
6.根据权利要求5所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述直线驱动机构包括电动推杆，该电动推杆伸出杆端连接过渡座。
7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述驱动单元采用直线步进电机。
8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于：所述近端凸起环以及远端凸起环的凸起高度为3-10mm。
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