[实用新型]一种加氢气化系统

权利要求书

1.一种加氢气化系统，其特征在于，包括：

气化炉(1)；

半焦成浆装置(2)，与所述气化炉(1)连通，用于将所述气化炉(1)产生的半焦制备为焦浆；

换热器(3)，所述换热器(3)的热流体侧的入口与所述半焦成浆装置(2)连通，用于将所述半焦成浆装置(2)制备得到的所述焦浆的温度降低。

2.根据权利要求1所述的加氢气化系统，其特征在于，还包括：

焦浆回流管(4)，其连接所述换热器(3)的热流体侧的出口和所述半焦成浆装置(2)，用于将换热后的焦浆部分回流至所述半焦成浆装置(2)。

3.根据权利要求1所述的加氢气化系统，其特征在于，所述半焦成浆装置(2)包括：

半焦成浆装置本体(21)；

半焦输入管(22)，其与所述气化炉(1)连通，所述半焦输入管(22)用于将所述气化炉(1)产生的所述半焦输送至所述半焦成浆装置本体(21)内；

焦浆输出管(23)，所述焦浆输出管(23)设于所述半焦成浆装置本体(21)的底部，所述焦浆输出管(23)与所述换热器(3)的热流体侧的入口连通；

喷淋器(24)，设于所述半焦成浆装置本体(21)的顶部，用于将成浆液体输入所述半焦成浆装置本体(21)。

4.根据权利要求3所述的加氢气化系统，其特征在于，所述半焦成浆装置(2)还包括：

填料层(25)，所述填料层(25)设于所述半焦成浆装置本体(21)内部；

所述填料层(25)位于所述半焦输入管(22)上方；

所述填料层(25)位于所述喷淋器(24)下方。

5.根据权利要求4所述的加氢气化系统，其特征在于，

所述填料层(25)包括分布板(251)和置于所述分布板上的填料(252)；

所述分布板上设有多个开孔。

6.根据权利要求3所述的加氢气化系统，其特征在于，所述半焦成浆装置(2)还包括：

成浆添加剂入口(26)，设于所述半焦成浆装置本体(21)的壁面，用于将成浆添加剂通入所述半焦成浆装置本体(21)内。

7.根据权利要求3所述的加氢气化系统，其特征在于，所述半焦成浆装置(2)还包括：

多个料位计(27)，纵向排列设于所述半焦成浆装置本体(21)的壁面，用于观测所述焦浆液面的高低。

8.根据权利要求6所述的加氢气化系统，其特征在于，

所述半焦成浆装置本体(21)的内部预留部分所述成浆液体；和/或

所述半焦成浆装置本体(21)的内部预留部分经过回流的所述焦浆；

所述成浆液体的液面高于所述半焦输入管(22)和所述成浆添加剂入口(26)；

所述焦浆的液面高于所述半焦输入管(22)和所述成浆添加剂入口(26)。

9.根据权利要求3所述的加氢气化系统，其特征在于，还包括：

送风装置(5)，设于所述半焦输入管(22)，所述送风装置(5)用于调节所述半焦的输入量。

10.根据权利要求1所述的加氢气化系统，其特征在于，还包括：

气体处理系统(6)，分别与所述半焦成浆装置(2)和所述气化炉(1)连通，用于对所述半焦成浆装置(2)和所述气化炉(1)排出的气体进行净化、降温处理。