[实用新型]一种N型电池结构有效
申请号: | 201922273936.2 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN211045452U | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 李硕;杨慧;邓伟伟;蒋方丹 | 申请(专利权)人: | 嘉兴阿特斯光伏技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/068 | 分类号: | H01L31/068;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市秀洲区高照街*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电池 结构 | ||
1.一种N型电池结构,包括N型硅体材料及形成于所述N型硅体材料表面的金属栅线电极,其特征在于,所述N型硅体材料的背面设有绒面部分及抛光部分,所述金属栅线电极与N型硅体材料接触的位置位于所述绒面部分内。
2.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,金属栅线电极与N型硅体材料接触的位置为绒面,未接触的位置为抛光面。
3.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,所述N型电池还包括依次位于所述N型硅体材料正面的pn结层、钝化层、减反射层和正面电极,
以及依次位于所述N型硅体材料背面的量子隧穿层、P掺杂的多晶硅层、保护层和金属栅线电极;
其中,正面电极与钝化层接触,金属栅线电极与P掺杂的多晶硅层接触。
4.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,所述N型硅体材料背面的绒面高度为0.5μm~5μm。
5.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述量子隧穿层的厚度在2nm以下,所述P掺杂的多晶硅层的厚度为80nm~120nm。
6.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述钝化层为氧化铝层。
7.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述减反射层为氮化硅层、二氧化硅层或碳化硅层中的任意一种。
8.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述量子隧穿层为二氧化硅层。
9.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述保护层为氮化硅层。
10.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述金属栅线电极为银电极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的