[实用新型]一种N型电池结构有效

专利信息
申请号: 201922273936.2 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN211045452U 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 李硕;杨慧;邓伟伟;蒋方丹 申请(专利权)人: 嘉兴阿特斯光伏技术有限公司
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 314000 浙江省嘉兴市秀洲区高照街*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电池 结构
【权利要求书】:

1.一种N型电池结构,包括N型硅体材料及形成于所述N型硅体材料表面的金属栅线电极,其特征在于,所述N型硅体材料的背面设有绒面部分及抛光部分,所述金属栅线电极与N型硅体材料接触的位置位于所述绒面部分内。

2.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,金属栅线电极与N型硅体材料接触的位置为绒面,未接触的位置为抛光面。

3.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,所述N型电池还包括依次位于所述N型硅体材料正面的pn结层、钝化层、减反射层和正面电极,

以及依次位于所述N型硅体材料背面的量子隧穿层、P掺杂的多晶硅层、保护层和金属栅线电极;

其中,正面电极与钝化层接触,金属栅线电极与P掺杂的多晶硅层接触。

4.根据权利要求1所述的N型电池结构,其特征在于,所述N型硅体材料背面的绒面高度为0.5μm~5μm。

5.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述量子隧穿层的厚度在2nm以下,所述P掺杂的多晶硅层的厚度为80nm~120nm。

6.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述钝化层为氧化铝层。

7.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述减反射层为氮化硅层、二氧化硅层或碳化硅层中的任意一种。

8.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述量子隧穿层为二氧化硅层。

9.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述保护层为氮化硅层。

10.根据权利要求3所述的N型电池结构,其特征在于,所述金属栅线电极为银电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴阿特斯光伏技术有限公司,未经嘉兴阿特斯光伏技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922273936.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top