[实用新型]一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备有效
申请号: | 201922289168.X | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN211149067U | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 程进;徐乃涛;孙其梁;李宋泽 | 申请(专利权)人: | 无锡微视传感科技有限公司 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G02B26/08 |
代理公司: | 北京智客联合知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11700 | 代理人: | 杨群 |
地址: | 214000 江苏省无锡市锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 mems 微振镜 结构 激光 扫描 生成 设备 | ||
一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备,包括激光发射器、透镜单元、MEMS微振镜、反射单元、反馈结构和核心控制器,所述激光发射器发出点激光投射到透镜单元上,形成准直点激光或均匀线激光,投射到所述MEMS微振镜上,生成线结构光或面结构光,部分线结构光或面结构光被反射单元反射至所述反馈结构,反馈结构传输MEMS微振镜位置信息至核心控制器,核心控制器实时控制激光发射器和MEMS微振镜,投射目标图案。本方案通过设置反射单元改变光路,将反馈结构与MEMS微振镜集成在一起,从而缩小设备体积、降低装配难度,具有精度高、装配难度小、一体化程度高及稳定性好的优点。
技术领域
本实用新型涉及微光机电系统设备领域,尤其涉及一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备。
背景技术
MEMS微振镜具有耗能低、响应快、体积小、集成化程度高等优点,已在微光机电系统设备领域广泛应用,但MEMS微振镜本身的干扰能力较差,其幅值与相位会受到电压、环境温度及振动冲击等干扰因素影响,导致MEMS微振镜稳定性降低、其扫描生成的结构光精度低、准确性差,并且对结构对位精度要求高、装配难度大,难以适应本领域的使用需求。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型的目的是提供一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备,通过设置反射单元改变光路,将反馈结构与MEMS微振镜集成在一起,从而缩小设备体积、降低装配难度,实时采集监测并精准控制MEMS微振镜的振动幅值与相位,大大提高了扫描生成结构光的精度及稳定性,结构简单、易维护及一体化程度高。
本实用新型所采用的技术方案是:一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备,包括激光发射器、透镜单元、MEMS微振镜、反射单元、反馈结构和核心控制器,所述激光发射器发出点激光投射到透镜单元上,形成准直点激光或均匀线激光,投射到所述MEMS微振镜上,生成线结构光或面结构光,部分线结构光或面结构光被反射单元反射至所述反馈结构,反馈结构传输振镜位置信息至核心控制器,核心控制器实时控制激光发射器和MEMS扫描振镜,投射目标图案。
所述的反馈结构包括反馈采集元件、PCB电路板和方形壳体,所述反馈采集元件为光电探测器,所述PCB电路板倾斜放置,所述MEMS微振镜和反馈采集元件贴装于PCB电路板上,所述方形壳体其顶部线结构光或面结构光出射处设置有透光窗。
所述的反射单元为高反射率膜层,位于方形壳体内侧,所述的反射单元位于MEMS微振镜上方,所述的反射单元位于透光窗边缘处。
所述的MEMS微振镜投射出的线结构光或面结构光超出透光窗区域,覆盖反射单元。
所述的反馈采集元件位于反射单元反射的线结构光或面结构光在PCB电路板的扫描路径上。
所述反馈采集元件共有两个,分别设置在MEMS微振镜两侧。
所述方形壳体的内壁设置有用于吸收多余反射光的吸光层。
所述透光窗上设置有用以增加激光透光率的增透膜。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:本实用新型所述的一种基于MEMS微振镜结构的激光扫描生成设备,通过设置反射单元改变光路,将反馈结构中的反馈采集单元与MEMS微振镜集成在同一块PCB电路板上,由PCB电路板统一供电,反馈采集单元无需单独供电电路,也无需额外定位,从而缩小设备体积、降低装配难度,大大提高了扫描生成结构光的精度及稳定性,结构简单、易维护及一体化程度高。
附图说明
图1是本实用新型的构架图;
图2是本实用新型中反馈结构的结构示意图;
图3是本实用新型PCB电路板上封装元件的结构示意图。
具体实施方式
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