[实用新型]一种高压LED芯片有效
申请号: | 201922292676.3 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN211088296U | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 仇美懿;庄家铭;徐亮 | 申请(专利权)人: | 佛山市国星半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/40;H01L33/00;H01L27/15 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡枫;李素兰 |
地址: | 528200 广东省佛山市南海区狮*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高压 led 芯片 | ||
1.一种高压LED芯片,其特征在于,包括衬底、若干个设于衬底正面上的发光结构、N电极、P电极、连接电极和桥接强化层;
所述N电极和P电极设置在发光结构上,所述连接电极将相邻两个发光结构的N电极和P电极形成导电连接,所述桥接强化层设置在连接电极上,以强化连接电极,并对经过连接电极的电流进行分流;
所述桥接强化层包括Cr层、Ti层、Pt层和Au层,所述Cr层设置在连接电极和Ti层之间,所述Pt层设置在Ti层和Au层之间。
2.如权利要求1所述的高压LED芯片,其特征在于,所述Cr层的厚度为20~50埃,Ti层的厚度为500~2000埃,Pt层的厚度为500~2000埃,Au层的厚度为5000~30000埃。
3.如权利要求2所述的高压LED芯片,其特征在于,所述Cr层的厚度为25~40埃,Ti层的厚度为800~1500埃,Pt层的厚度为500~1000埃,Au层的厚度为5000~20000埃。
4.如权利要求1所述的高压LED芯片,其特征在于,所述发光结构包括外延层和透明导电层,所述外延层包括依次设于衬底上的第一半导体层、有源层和第二半导体层,所述透明导电层设置在第二半导体层上,所述N电极设置在第一半导体层上,所述P电极设置在透明导电层上。
5.如权利要求1所述的高压LED芯片,其特征在于,发光结构之间设有隔离槽,所述发光结构和隔离槽上设有绝缘层;
所述连接电极设置在绝缘层上,所述连接电极包括桥接部和连接部,所述桥接部位于隔离槽上,所述连接部与桥接部连接,所述桥接强化层设置在桥接部上。
6.如权利要求4所述的高压LED芯片,其特征在于,还包括设置在衬底背面上的抗应力层,所述抗应力层用于防止芯片因高温发生翘曲。
7.如权利要求6所述的高压LED芯片,其特征在于,所述抗应力层由GaN制成。
8.如权利要求6所述的高压LED芯片,其特征在于,所述抗应力层包括GaN层、AlGaN层和AlN层,所述GaN层设置在衬底和AlGaN层之间,所述AlN层设置在AlGaN层上。
9.如权利要求6-8任一项所述的高压LED芯片,其特征在于,所述抗应力层的厚度为外延层厚度的1.0~1.2倍。
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