[实用新型]一种紫外光刻曝光机基板清洁装置

权利要求书

1.一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，包括

支架(100)；

调节机构(200)，所述调节机构(200)固定在所述支架(100)的顶面；

转动机构(300)，所述转动机构(300)包括伺服电机(310)、第二固定板(320)、第二螺纹杆(340)和第三螺纹杆(350)，所述伺服电机(310)安装在所述调节机构(200)的顶面，所述第二固定板(320)固定在所述伺服电机(310)的输出轴的端部，所述第二固定板(320)的顶面对称开设有两个第二滑槽(330)，所述第二螺纹杆(340)和所述第三螺纹杆(350)分别转动连接在所述第二滑槽(330)的内部，所述第二螺纹杆(340)和所述第三螺纹杆(350)固定连接，所述第二螺纹杆(340)和所述第三螺纹杆(350)的外表面分别螺接有夹紧块(360)；

升降机构(400)，所述升降机构(400)固定在所述支架(100)的一侧；

清洁机构(500)，所述清洁机构(500)包括横板(510)、弹性件(520)、第三固定板(530)和毛刷(560)，所述横板(510)固定在所述升降机构(400)的顶面，所述横板(510)的内部对称开设有第一空腔(511)，所述弹性件(520)设置在所述第一空腔(511)的内部，所述第三固定板(530)固定在所述弹性件(520)的底部，所述第三固定板(530)的内部开设有第二空腔(540)，所述第二空腔(540)的底部开设有通孔(550)，所述第三固定板(530)的底部安装有毛刷(560)，所述第二空腔(540)的顶面连通有连接管(570)。

2.根据权利要求1所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述支架(100)包括底板(110)和支撑柱(120)，所述支撑柱(120)固定在所述底板(110)的顶面。

3.根据权利要求1所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述调节机构(200)包括第一固定板(210)、第一螺纹杆(230)和滑块(240)，所述第一固定板(210)的顶面开设有第一滑槽(220)，所述第一螺纹杆(230)转动连接在所述第一滑槽(220)的内部，所述滑块(240)螺接在所述第一螺纹杆(230)的外表面。

4.根据权利要求3所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述滑块(240)为梯形，所述伺服电机(310)固定在所述滑块(240)的顶面，所述第一螺纹杆(230)的端部贯穿所述第一滑槽(220)，所述第一螺纹杆(230)的端部键连接有第一转动件(250)。

5.根据权利要求4所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述第二螺纹杆(340)贯穿所述第二滑槽(330)，所述第二螺纹杆(340)的端部键连接有第二转动件(370)。

6.根据权利要求2所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述升降机构(400)包括连接板(410)和电缸(430)，所述连接板(410)固定在所述支撑柱(120)的外表面，所述电缸(430)安装在所述连接板(410)的一侧，所述横板(510)固定在所述电缸(430)的端部，所述连接板(410)的顶面开设有限位槽(440)。

7.根据权利要求6所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述连接板(410)的一侧固定有固定板(420)，所述电缸(430)固定在所述固定板(420)的顶面。

8.根据权利要求1所述的一种紫外光刻曝光机基板清洁装置，其特征在于，所述弹性件(520)包括弹簧(521)、活动板(522)和固定柱(523)，所述弹簧(521)固定在所述第一空腔(511)的内部，所述活动板(522)固定在所述弹簧(521)的另一端，所述活动板(522)与所述第一空腔(511)的内表面滑动连接，所述固定柱(523)固定在所述活动板(522)的端部，所述固定柱(523)贯穿所述第一空腔(511)延伸至外部，所述固定柱(523)的端部固定在所述第三固定板(530)的端部。