[实用新型]一种实现大幅面多路激光并行刻划的装置有效

专利信息
申请号: 201922306691.9 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN211680539U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 王雪辉;雷桂明;许维 申请(专利权)人: 武汉华工激光工程有限责任公司
主分类号: B23K26/364 分类号: B23K26/364;B23K26/067
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 杨鹏
地址: 430000 湖北省武汉市东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 大幅面 激光 并行 刻划 装置
【权利要求书】:

1.一种实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,包括激光发射模块、激光衍射模块和激光聚焦模块,所述激光发射模块、所述激光衍射模块和所述激光聚焦模块依次设置,所述激光发射模块用于发射激光,所述激光衍射模块用于将所述激光分成至少两束子光束,所述激光聚焦模块用于对所述至少两束子光束聚焦,聚焦后的所述子光束用于对基板刻线。

2.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光衍射模块包括衍射光学元件和旋转电机,所述旋转电机与所述衍射光学元件传动连接,用于调节所述衍射光学元件对所述激光的衍射角度,以调节相邻两束所述子光束在所述基板上的间距。

3.根据权利要求2所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光衍射模块还包括直线机构,所述直线机构与所述旋转电机传动连接,用于使所述衍射光学元件靠近或远离所述激光聚焦模块。

4.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光聚焦模块包括聚焦镜和调节结构,所述调节结构与所述聚焦镜传动连接,用于调节所述聚焦镜与所述激光衍射模块的距离。

5.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述实现大幅面多路激光并行刻划的装置还包括基座,所述激光衍射模块和所述激光聚焦模块均安装于所述基座上。

6.根据权利要求5所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述基座上设置有至少一个激光衍射安装位置或者至少一个激光聚焦安装位置,所述激光衍射模块安装于所述至少一个激光衍射安装位置中的一者,所述激光聚焦模块安装于所述至少一个激光聚焦安装位置中的一者。

7.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光聚焦模块包括用于对所述子光束聚焦的远心透镜或激光场镜。

8.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光并行刻线装置还包括激光反射模块,所述激光反射模块用于发射由所述激光发射模块发出的所述激光,所述激光衍射模块用于衍射所述激光反射模块反射后的所述激光。

9.根据权利要求1所述的实现大幅面多路激光并行刻划的装置,其特征在于,所述激光并行刻线装置还包括激光分光模块,所述激光分光模块用于对所述激光发射模块发出的所述激光分光,所述激光衍射模块用于衍射所述激光分光模块分光后的所述激光。

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