[实用新型]一种晶片承载盘及化学气相淀积设备

权利要求书

1.一种晶片承载盘，其特征在于，包括：

第一盘体，包括第一凹槽；以及

设置在所述第一凹槽中的第二盘体，所述第二盘体将所述第一凹槽分割成至少两个晶片承载槽；

所述第二盘体设置在所述第一盘体上的中心位置，其中，所述第一盘体和所述第二盘体之间可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的晶片承载盘，其特征在于，所述第二盘体和所述第一盘体拼接的部分的形状为以下形状中的一种或多种：直线、弧形和波浪形。

3.根据权利要求1所述的晶片承载盘，其特征在于，所述第二盘体将所述第一凹槽分割成至少三个晶片承载槽，至少三个所述晶片承载槽为圆形，其中至少三个所述晶片承载槽的中心连线构成一个正多边形。

4.根据权利要求3所述的晶片承载盘，其特征在于，至少三个所述晶片承载槽的尺寸为以下尺寸中的一种或多种：150mm、300mm和450mm。

5.根据权利要求1所述的晶片承载盘，其特征在于，所述第一盘体和所述第二盘体均为石墨制成。

6.一种化学气相淀积设备，其特征在于，包括反应腔室，其中上述权利要求1-5任一所述晶片承载盘设置在所述反应腔室内。