[实用新型]一种PI膜表面处理用电晕装置

权利要求书

1.一种PI膜表面处理用电晕装置，其特征在于：包括门形支架(1)，所述门形支架(1)之间连接前导辊(2)、后导辊(3)、正面电晕机构(4)和背面电晕机构(5)，所述正面电晕机构(4)包括上电晕辊(41)和上电晕电极(42)，所述背面电晕机构(5)包括下电晕辊(51)和下电晕电极(52)，所述前导辊(2)、后导辊(3)、上电晕辊(41)和下电晕辊(51)均与门形支架(1)上的电机(6)连接，所述门形支架(1)之间还连接上吸气罩(7)和下吸气罩(8)，所述上吸气罩(7)包括上C形支架(71)，所述上C形支架(71)下侧铰接上活动门(72)，所述下吸气罩(8)包括下C形支架(81)，所述下C形支架(81)上侧铰接下活动门(82)，所述上活动门(72)和下活动门(82)分别连接上吸气管(73)和下吸气管(83)，所述上活动门(72)和下活动门(82)通过转座连接驱动气缸(9)。

2.根据权利要求1所述的PI膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上电晕电极(42)和下电晕电极(52)均开设卡槽，所述上电晕电极(42)和下电晕电极(52)通过卡槽与电极安装座(10)的卡座连接(101)，所述门形支架(1)内侧位于电极安装座(10)上方的位置连接安装座连接板(11)，安装座连接板(11)上连接调节螺栓(111)，所述调节螺栓(111)尾端转动连接电极安装座(10)，所述调节螺栓(111)上连接锁紧螺母(112)。

3.根据权利要求1所述的PI膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上活动门(72)下侧和下活动门(82)上侧均连接橡胶片(12)。

4.根据权利要求1或3所述的PI膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上活动门(72)下侧和下活动门(82)与门形支架(1)之间通过密封条(13)密封。