[实用新型]一种PI膜表面处理用电晕装置

说明书

本实用新型涉及一种PI膜表面处理用电晕装置，包括门形支架，所述门形支架之间连接前导辊、后导辊、正面电晕机构和背面电晕机构，所述正面电晕机构包括上电晕辊和上电晕电极，所述背面电晕机构包括下电晕辊和下电晕电极，所述前导辊、后导辊、上电晕辊和下电晕辊均与门形支架上的电机连接，所述门形支架之间还连接上吸气罩和下吸气罩，所述上吸气罩包括上C形支架，所述上C形支架下侧铰接上活动门，所述下吸气罩包括下C形支架，所述下C形支架上侧铰接下活动门，所述上活动门和下活动门分别连接上吸气管和下吸气管，所述上活动门和下活动门通过转座连接驱动气缸，所述PI膜表面处理用电晕装置，防止有害气体外泄，改善操作者工作环境。

技术领域

本实用新型涉及薄膜生产设备，尤其涉及一种PI膜表面处理用电晕装置。

背景技术

在PI薄膜生产时通过电晕装置进行薄膜电晕，从而提高薄膜的达因值，薄膜在电晕过程中会产生有害气体，传统的电晕装置没有废气收集装置，有害气体会排放到设备周围，操作人员工作环境差。

实用新型内容

本申请人针对以上缺点，进行了研究改进，提供一种PI膜表面处理用电晕装置。

本实用新型所采用的技术方案如下：

一种PI膜表面处理用电晕装置，包括门形支架，所述门形支架之间连接前导辊、后导辊、正面电晕机构和背面电晕机构，所述正面电晕机构包括上电晕辊和上电晕电极，所述背面电晕机构包括下电晕辊和下电晕电极，所述前导辊、后导辊、上电晕辊和下电晕辊均与门形支架上的电机连接，所述门形支架之间还连接上吸气罩和下吸气罩，所述上吸气罩包括上C形支架，所述上C形支架下侧铰接上活动门，所述下吸气罩包括下C形支架，所述下C形支架上侧铰接下活动门，所述上活动门和下活动门分别连接上吸气管和下吸气管，所述上活动门和下活动门通过转座连接驱动气缸。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述上电晕电极和下电晕电极均开设卡槽，所述上电晕电极和下电晕电极通过卡槽与电极安装座的卡座连接，所述门形支架内侧位于电极安装座上方的位置连接安装座连接板，安装座连接板上连接调节螺栓，所述调节螺栓尾端转动连接电极安装座，所述调节螺栓上连接锁紧螺母。

所述上活动门下侧和下活动门上侧均连接橡胶片。

所述上活动门下侧和下活动门与门形支架之间通过密封条密封。

本实用新型的有益效果如下：所述PI膜表面处理用电晕装置，通过上吸气罩和下吸气罩将电晕装置完全罩在内部，收集有害气体，防止有害气体排到设备外，改善操作人员的工作环境。

附图说明

图1为本实用新型提供的PI膜表面处理用电晕装置的剖视图。

图2为本实用新型提供的PI膜表面处理用电晕装置的正视图。

图3为本实用新型提供的PI膜表面处理用电晕装置的部分正视图。

图4为本实用新型提供的PI膜表面处理用电晕装置的上、下吸气罩的侧视图。

图中：1、门形支架；2、前导辊；3、后导辊；4、正面电晕机构；41、上电晕辊；42、上电晕电极；5、背面电晕机构；51、下电晕辊；52、下电晕电极；6、电机；7、上吸气罩；71、上C形支架；72、上活动门；73、上吸气管；8、下吸气罩；81、下C形支架；82、下活动门；83、下吸气管；9、驱动气缸；10、电极安装座；101、卡座；11、安装座连接板；111、调节螺栓；112、锁紧螺母；12、橡胶片；13、密封条。

具体实施方式

下面结合附图，说明本实施例的具体实施方式。