[实用新型]一种光学镀膜辅助离子源有效
申请号: | 201922397576.7 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN211125564U | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 安建昊;唐欢欢 | 申请(专利权)人: | 江苏普拉斯玛机械有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;C23C14/46 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 镀膜 辅助 离子源 | ||
本实用新型公开了一种光学镀膜辅助离子源,包括放电室、位于放电室外侧的磁棒及依次安装在放电室正前方的屏极、加速极及中和灯丝,放电室内安装有第一阳极筒和第二阳极筒,放电室进口端内安装有位于第一阳极筒内的阴极,进口端沿周侧设有进气口,第一阳极筒和第二阳极筒之间设有栅极,第一阳极筒和第二阳极筒的内侧表面为凹凸不平的波浪形。本实用新型提供的一种光学镀膜辅助离子源,电子束流状态佳,稳定性好。
技术领域
本实用新型属于离子束技术领域,具体涉及一种光学镀膜辅助离子源。
背景技术
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支,离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。
目前,离子源的种类很多,该装置的基本工作原理为:首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,然后由屏栅和加速栅将离子从等离子腔体中抽取出来,这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。
但是现有离子源的缺点在于:电子束无序乱飞,束流状态差,稳定性差,不易控制;阳极管对电子灰尘的吸附性差。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型提供一种光学镀膜辅助离子源,电子束流状态佳,稳定性好。
本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种光学镀膜辅助离子源,包括放电室、位于放电室外侧的磁棒及依次安装在放电室正前方的屏极、加速极及中和灯丝,所述放电室内安装有第一阳极筒和第二阳极筒,所述放电室进口端内安装有位于所述第一阳极筒内的阴极,所述进口端沿周侧设有进气口,所述第一阳极筒和第二阳极筒之间设有栅极,所述第一阳极筒和第二阳极筒的内侧表面为凹凸不平的波浪形。
所述栅极采用金属栅网结构。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:采用双阳极筒设计,两根阳极筒间设有栅极,较好的控制电子束的大小,进而使得电子束流状态佳,稳定性好;双阳极筒的内侧表面为凹凸不平的波浪形,增大了对电子灰尘的吸附面积,从而提高了吸附率。
附图说明
图1是原离子源结构示意图;
图2是本实用新型光学镀膜辅助离子源结构示意图。
附图中:1.放电室;2.磁棒;3.屏极;4.加速极;5.中和灯丝;6.第一阳极筒;7.第二阳极筒;8.阴极;9.进气口;10.栅极。
具体实施方式
说明书附图中图1是原离子源结构示意图,它由放电室1和离子引出系统两部分组成。
阴极8位于放电室1中阳极筒内,与阳极筒共同作用,在工作电压下发射电子。
引出系统采用双栅极系统,由一个屏极3与一个加速极4组成,进气口9通入惰性气体,一般采用氩气进入离子源,气体在放电室1中电离形成的离子,由双栅极系统拔出形成离子束。中和灯丝5发射电子对离子束进行中和。磁棒2在此过程中起到控制与筛选等离子体的作用。
说明书附图中图2所示的为本实用新型光学镀膜辅助离子源,包括放电室1、位于放电室1外侧的磁棒2及依次安装在放电室1正前方的屏极3、加速极4及中和灯丝5,放电室内1安装有第一阳极筒6和第二阳极筒7,放电室1进口端内安装有位于第一阳极筒6内的阴极8,进口端沿周侧设有进气口9,第一阳极筒6和第二阳极筒7之间设有栅极10,第一阳极筒6和第二阳极筒7的内侧表面为凹凸不平的波浪形。
栅极10采用金属栅网结构。
工作时,阴极8产生的等离子体,由第一阳极筒6引流至金属栅网结构的栅极10以控制电子束的大小,保证电子束流状态稳定,而后再由第二阳极筒7引流出在屏栅和加速栅的作用下将离子从等离子腔体中抽取出来,该设计提高了电流的稳定性,改变了电子束无序乱飞的束流状态。
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