[实用新型]一种高纯硅片自动清洗装置

权利要求书

1.一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，包括控制单元、清洗槽、超声波发生器，所述清洗槽底部固定设有换能器，所述超声波发生器与所述换能器信号连接，所述控制单元与所述超声波发生器信号连接；还包括冷水水路、热水水路，所述冷水水路一端、所述热水水路一端均连通所述清洗槽，其另一端分别连接冷水源、热水源；还包括排污管，所述排污管的开口设置在所述清洗槽的下部；所述冷水水路、所述热水水路、所述排污管中分别设有电磁阀，所述电磁阀与所述控制单元的输出信号连接；所述清洗槽内设有高低液位开关，所述高低液位开关与所述控制单元的输入信号连接；所述排污管中设有排污泵，所述排污泵与所述控制单元的输出信号连接。

2.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，所述热水水路中设有温度传感器，所述温度传感器与所述控制单元的模拟量输入信号连接。

3.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，所述热水水路中还设有加热器，所述加热器与所述控制单元的数字量输出端信号连接。

4.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，所述排污管上设有电阻率测量仪，所述电阻率测量仪的输出与所述控制单元的模拟量输入端信号连接。

5.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，所述控制单元为PLC。

6.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，还包括急停开关，所述急停开关与所述控制单元信号输入端连接，用于控制整个装置的停止。

7.根据权利要求1所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，还包括声光报警模块，所述声光报警模块与所述控制单元的输出信号连接。

8.根据权利要求1-7任一项所述一种高纯硅片自动清洗装置，其特征在于，设有至少两个所述清洗槽，至少两个所述清洗槽共用一个超声波发生器，且每个所述清洗槽均设有独立的冷水水路、热水水路、排污管、高低液位开关。