[实用新型]一种高纯硅片自动清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种高纯硅片自动清洗装置，包括控制单元、清洗槽、超声波发生器，清洗槽底部固定设有换能器，超声波发生器与换能器信号连接，控制单元与超声波发生器信号连接；还包括冷水水路、热水水路，冷水水路一端、热水水路一端均连通清洗槽，其另一端分别连接冷水源、热水源；还包括排污管，排污管的开口设置在清洗槽的下部；冷水水路、热水水路、排污管中分别设有电磁阀，电磁阀与控制单元信号连接；清洗槽内设有高低液位开关，高低液位开关与控制单元信号连接；排污管中设有排污泵，排污泵由控制单元信号控制。本实用新型其能实现自动清洗，解决了人工成本高、人员劳动强度大的问题，防止超声波对人员造成伤害，清洗效果好。

技术领域

本实用新型涉及自动清洗设备技术领域，具体涉及一种高纯硅片自动清洗装置。

背景技术

专用清洗是高端可控硅制造的重要环节。目前，在专用加工过程中的清洗过程是人工的，这个过程主要有以下不足：1)人工要对清洗过程加水、放水反复操作几十次以上，枯燥乏味；2)人工清洗操作的时长、次数只能凭操作工的个人判断；3)人工长时间操作易产生疲劳；4)人工操作对于清洗效果无法做到精确控制；5)人工清洗时超声波污染会对人体健康损害。人工操作既枯燥、占用人工成本，又不能实现清洗过程的自动精确控制。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的技术问题，提供一种高纯硅片自动清洗装置，其能实现自动清洗，解决了人工成本高、人员劳动强度大的问题，防止超声波对人员造成伤害，清洗效果好。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下：

一种高纯硅片自动清洗装置，包括控制单元、清洗槽、超声波发生器，所述清洗槽底部固定设有换能器，所述超声波发生器与所述换能器信号连接，所述控制单元与所述超声波发生器信号连接；还包括冷水水路、热水水路，所述冷水水路一端、所述热水水路一端均连通所述清洗槽，其另一端分别连接冷水源、热水源；还包括排污管，所述排污管的开口设置在所述清洗槽的下部；所述冷水水路、所述热水水路、所述排污管中分别设有电磁阀，所述电磁阀与所述控制单元的输出信号连接；所述清洗槽内设有高低液位开关，所述高低液位开关与所述控制单元的输入信号连接；所述排污管中设有排污泵，所述排污泵与所述控制单元的输出信号连接。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进。

进一步，所述热水水路中设有温度传感器，所述温度传感器与所述控制单元的模拟量输入信号连接。

进一步，所述热水水路中还设有加热器，所述加热器与所述控制单元的数字量输出端信号连接。

进一步，所述排污管上设有电阻率测量仪，所述电阻率测量仪的输出与所述控制单元的模拟量输入端信号连接。

进一步，所述控制单元为PLC。

进一步，还包括急停开关，所述急停开关与所述控制单元信号输入端连接，用于控制整个装置的停止。

进一步，还包括声光报警模块，所述声光报警模块与所述控制单元的输出信号连接。

进一步，设有至少两个所述清洗槽，至少两个所述清洗槽共用一个超声波发生器，且每个所述清洗槽均设有独立的冷水水路、热水水路、排污管、高低液位开关。