[实用新型]一种磁场强度可调节式磁控溅射装置有效
申请号: | 201922420504.X | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN211689224U | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 鲍伟伟;陈磊;史永辉 | 申请(专利权)人: | 无锡广信赢科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214028 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁场强度 调节 磁控溅射 装置 | ||
本实用新型涉及磁场强度可调节式磁控溅射装置领域,公开了一种磁场强度可调节式磁控溅射装置,包括装置主体,所述装置主体的内端刻有内螺纹,所述装置主体的内端螺纹连接有外螺纹套筒,所述装置主体的内侧设有多层胶布主体,多层所述胶布主体均位于靠近外螺纹套筒口处,相邻的两层胶布主体相粘接,最外层的胶布主体与外螺纹套筒的内壁粘接,多个所述胶布主体的下端均固定连接有内筒体,多个所述内筒体自上而下依次套接,且多个所述内筒体均位于装置主体内,一对所述伸缩杆凹槽内端设有伸缩杆,一对所述伸缩杆凹槽与伸缩杆转动连接,所述伸缩杆的两端均固定连接有限位块,所述限位块与限位腔转动连接,装置主体内便于清洁,使用更加方便。
技术领域
本实用新型涉及磁场强度领域,更具体地说,特别涉及一种磁场强度可调节式磁控溅射装置。
背景技术
溅射工艺是以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面,使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。磁场溅射的反应发生在密闭的真空空间内,如图1中装置主体1所示,其上还安装有抽真空装置,在附图中未示出,现有的装置主体1内在溅射后容易被污染,且由于其的桶装结构导致其清洗不便。
如何解决上述技术问题,成为亟待解决的难题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种磁场强度可调节式磁控溅射装置,以解决背景技术中提到的问题。
为了达到上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种磁场强度可调节式磁控溅射装置,包括装置主体,所述装置主体的内端刻有内螺纹,所述装置主体的内端螺纹连接有外螺纹套筒,所述装置主体的内侧设有多层胶布主体,多层所述胶布主体均位于靠近外螺纹套筒口处,相邻的两层胶布主体相粘接,最外层的胶布主体与外螺纹套筒的内壁粘接,多个所述胶布主体的下端均固定连接有内筒体,多个所述内筒体自上而下依次套接,且多个所述内筒体均位于装置主体内,所述多个内筒体的内端均刻有刻度,所述装置主体的上端刻有外螺纹,所述装置主体的上端设有一对相互匹配的半杯盖,一对所述半杯盖的下端均固定连接有半圆弧型板,一对所述半圆弧型板相匹配,一对所述半圆弧型板均与装置主体的上端螺纹连接,一对所述半杯盖相互靠近的一端均开设有半圆形开口,一对所述开口内壁均固定连接有半轴承,一对所述半轴承相匹配,所述半杯盖的上端均固定连接有卡扣,一对所述半杯盖通过卡扣卡接,一对所述半杯盖相互靠近的一端均开设有伸缩杆凹槽,一对所述半杯盖的内端均开设有限位腔,所述限位腔与伸缩杆凹槽连通,一对所述伸缩杆凹槽内端设有伸缩杆,一对所述伸缩杆凹槽与伸缩杆转动连接,所述伸缩杆的两端均固定连接有限位块,所述限位块与限位腔转动连接,装置主体内便于清洁,使用更加方便。
进一步的,所述装置主体的下端固定连接有防滑垫圈,所述防滑垫圈的表面刻有防滑纹,增加防滑垫圈放置时的稳定性,使其不易倾倒。
进一步的,所述装置主体的外端固定连接有计时器,可以有效地记录小试的时间使生产试验结果的信服力。
进一步的,所述装置主体的外端固定连接有把手,所述把手的外端固定连接有保护套,可以有效的持握装置主体。
进一步的,所述半杯盖的下端固定连接有密封橡胶垫,所述密封橡胶垫位于一对半圆弧型板内,增加密封性。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
现有的装置主体在溅射时不易将杯口处密封,打开卡扣,一对半杯盖可以相对转动,拉动一对半杯盖,伸缩杆伸长,转动一对半杯盖使其错位,然后将一对半杯盖套接在溅射液的溅射轴上,按压一对半杯盖使其靠近,然后通过卡扣将一对半杯盖卡接,然后同时转动一对半杯盖使一对半圆弧型板均与装置主体的上端螺纹连接,可以在溅射时有效的将装置主体密封。
附图说明
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