[实用新型]掩模去胶通用耐酸手臂

说明书

本实用新型公开了掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管，所述臂管底端表面开设有连接孔，所述连接孔顶端开设有贯穿孔,所述贯穿孔与臂管内壁相互贯通，所述连接孔内部顶端设置有第一密封垫，所述臂管底端设置有第一扇形喷头，所述第一扇形喷头顶端分别设置有加固环、密封环以及第二密封垫，所述第一扇形喷头贯穿加固环、密封环以及第二密封垫，所述密封环位于加固环顶端；通过将臂管长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔间距设置为一点二厘米以及在连接孔加装第一扇形喷头，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。

技术领域

本实用新型属于耐酸手臂技术领域，具体涉及掩模去胶通用耐酸手臂。

背景技术

在半导体、集成电路、光伏产品等电子产品制造过程中，需要对以半导体晶片和光掩模板为代表的各种基板进行光刻处理，这些基板还包括液晶显示器、等离子体显示器用玻璃基板、磁盘、光磁盘母版等，以下统称为掩模版。在加工时，需要使用光致抗蚀材料在基板上形成集成电路和半导体器件的布局图案或者其它电路图案和数据图案。基板需要完成曝光、显影、刻蚀、去胶、检测等加工工艺，目前掩模去胶机是去胶使用的设备，通过硫酸，氨水,双氧水等溶液对蚀刻后残留的胶进行去除以及对检测后残留的小颗粒进行去胶。但由于掩模去胶机耐酸手臂的局限性，去胶5寸以及6寸掩模板时会需要多次去胶的问题，为此我们提出掩模去胶通用耐酸手臂。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供掩模去胶通用耐酸手臂，以解决上述背景技术中提出目前掩模去胶机是去胶使用的设备，通过硫酸，氨水,双氧水等溶液对蚀刻后残留的胶进行去除以及对检测后残留的小颗粒进行去胶。但由于掩模去胶机耐酸手臂的局限性，去胶5寸以及6寸掩模板时会需要多次去胶的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管，所述臂管底端表面开设有连接孔，所述连接孔顶端开设有贯穿孔,所述贯穿孔与臂管内壁相互贯通，所述连接孔内部顶端设置有第一密封垫，所述臂管底端设置有第一扇形喷头，所述第一扇形喷头顶端分别设置有加固环、密封环以及第二密封垫，所述第一扇形喷头贯穿加固环、密封环以及第二密封垫，所述密封环位于加固环顶端，所述第二密封垫位于密封环顶端，所述第二密封垫、密封环以及第一扇形喷头顶端均位于连接孔内部，所述第一密封垫底端位于第一扇形喷头顶端。

优选的，所述连接孔数量为六，所述连接孔均匀分布在密封环底端表面。

优选的，所述两个相邻连接孔之间的间距为一点二厘米，所述臂管两端与连接孔之间的间距均为一厘米，所述臂管长度为八厘米。

优选的，所述第一扇形喷头均与加固环以及密封环固定连接，所述第二密封垫与密封环固定连接。

优选的，所述贯穿孔与连接孔相互贯通，所述第一密封垫内径与贯穿孔内径一致。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

通过将臂管长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔间距设置为一点二厘米以及在连接孔加装第一扇形喷头，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。

附图说明

图1为本实用新型的耐酸手臂结构示意图；

图2为本实用新型的结构耐酸手臂剖视示意图；

图3为图2中的a处放大结构示意图；

图中：1、臂管；2、第一扇形喷头；3、加固环；4、贯穿孔；5、连接孔；6、密封环；7、第一密封垫；8、第二密封垫。

具体实施方式