[实用新型]一种晶片清洗离心机

权利要求书

1.一种晶片清洗离心机，其特征在于：包括设备底座(1)，所述底座(1)上方设有机壳(2)，所述机壳(2)分为壳身(21)与壳顶(22)，所述壳身(21)连接所述壳顶(22)与所述底座(1)，所述底座(1)表面设有截面为半圆的凹纹，所述凹纹内设有支撑球(11)，所述底座(1)下方设有驱动电机(12)，所述驱动电机(12)联动支撑轴(13)，所述支撑轴(13)穿过所述底座(1)，所述支撑轴(13)顶端设有清洗底盘(14)，所述清洗底盘(14)贴合所述支撑球(11)，所述清洗底盘(14)侧面设有侧板(15)，所述侧板(15)靠近所述清洗底盘(14)处设有出液管(16)，所述壳身(21)设有疏水管(23)及进水管(24)，所述疏水管(23)通过软管连接过滤装置(3)，所述过滤装置(3)一端通过软管连接所述疏水管(23)，另一端通过软管连接所述进水管(24)，所述壳身(21)与所述底座(1)固定连接，所述壳顶(22)底面设有凹槽，所述壳顶(22)通过所述凹槽卡合在所述壳身(21)上，所述壳顶(22)上设有热风机(25)，所述热风机(25)设有若干风道(26)，所述风道(26)穿过所述壳顶(22)与所述底座(1)水平垂直，所述风道(26)末端位于所述侧板(15)上方，所述热风机(25)与所述壳顶(22)间设有电机座(27)，所述电机座(27)联动电控伸缩杆(28)，所述伸缩杆(28)穿过所述壳顶(22)，所述伸缩杆(28)上设有支撑件(281)，所述支撑件(281)末端设有清洗盒(282)。

2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗离心机，其特征在于：所述凹槽内设有密封圈。

3.根据权利要求1所述的一种晶片清洗离心机，其特征在于：所述清洗盒(282)为镂空网状清洗盒。

4.根据权利要求1所述的一种晶片清洗离心机，其特征在于：所述风道上设有若干出风管口(261)，所述出风管口(261)均向所述伸缩杆轴心设置。

5.根据权利要求1所述的一种晶片清洗离心机，其特征在于：所述底座下方设有稳定支架。

6.根据权利要求1所述的一种晶片清洗离心机，其特征在于：所述电机座(27)上设有电控开关，所述开关控制所述电控伸缩杆(28)。