[实用新型]照明式开关电源用快恢复二极管有效

专利信息
申请号: 201922459013.6 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN211828776U 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/868;H01L29/06
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 徐蓓;尹妍
地址: 210034 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 照明 开关电源 恢复 二极管
【权利要求书】:

1.一种照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,硅晶片上设有两个相同大小的有源区,每个有源区中,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,所述N型硅衬底上有3个环形结构,外环为高掺杂N型硅发射区,高掺杂P型硅基区和外环高掺杂N型硅发射区中间有两个高掺杂P型硅基环,高掺杂P型硅基区、高掺杂N型硅发射区和两个高掺杂P型硅基环间等距离间隔。

2.根据权利要求1所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,所述N型硅衬底、高掺杂P型硅基区、两个高掺杂P型硅基环和高掺杂N型硅发射区上有石墨烯层。

3.根据权利要求1所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,所述两个有源区平行均匀排布。

4.根据权利要求1所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,所述硅晶片厚度为250±15μm,两个高掺杂P型硅基区深度为60μm,所述高掺杂N型硅发射区深度为15μm。

5.根据权利要求1所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,所述低掺杂的N型硅衬底电阻率为30Ω·cm。

6.根据权利要求1所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,低掺杂N型硅衬底上沉积金属Al作为阳极,N型硅衬底的背面沉积金属Ag作为阴极;所述两个有源区共阴极。

7.根据权利要求6所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,电极外设有保护膜。

8.根据权利要求6所述的照明式开关电源用快恢复二极管,其特征在于,所述金属Al的厚度为4μm,所述金属Ag的厚度为0.78μm。

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