[实用新型]一种真空吸附台面及曝光机

权利要求书

1.一种真空吸附台面，其特征在于，包括：

台面主体，所述台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；

遮盖面板，所述遮盖面板覆盖在所述台面主体上，所述遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向，所述遮盖面板伸缩以控制所述遮盖面板遮盖所述台面主体的面积；

面板驱动装置，所述面板驱动装置驱动所述遮盖面板伸缩。

2.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述吸附孔在X轴方向和Y轴方向上均匀分布。

3.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述遮盖面板的两侧连接有连接件，所述面板驱动装置为电缸，所述连接件与所述面板驱动装置连接。

4.根据权利要求3所述的真空吸附台面，其特征在于，两个所述连接件之间设置有固定杆，所述固定杆与所述遮盖面板的顶面固定连接。

5.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述遮盖面板为软板。

6.根据权利要求5所述的真空吸附台面，其特征在于，还包括卷料装置，所述卷料装置包括卷料轴、设置在所述卷料轴两端的支撑件、安装在所述支撑件上并与所述卷料轴的端部连接的轴承，所述卷料轴以其自身的轴线为转轴转动设置，所述遮盖面板缠绕在所述卷料轴上。

7.根据权利要求6所述的真空吸附台面，其特征在于，所述卷料轴的端部连接有发条弹簧。

8.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，台面主体在X轴方向上分为第一区域和第二区域，所述第一区域的吸附孔连接有真空泵，所述第一区域内的吸附孔通过一所述真空泵抽吸真空，所述第二区域包含多个子区域，每个子区域对应一个真空发生器。

9.根据权利要求8所述的真空吸附台面，其特征在于，所述第二区域内的子区域包含对应Y轴方向至少一列吸附孔。

10.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件，所述真空吸附台面安装在所述运动组件上并在所述运动组件的驱动下在所述支架的下方运动，所述曝光镜头安装在所述支架上。