[实用新型]一种真空吸附台面及曝光机有效
申请号: | 201922461093.9 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN212009275U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 张雷 | 申请(专利权)人: | 源能智创(江苏)半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215399 江苏省苏州市昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 吸附 台面 曝光 | ||
本实用新型公开了一种真空吸附台面及曝光机,真空吸附台面包括台面主体、遮盖面板、面板驱动装置,台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔;遮盖面板覆盖在台面主体上,遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向;面板驱动装置驱动遮盖面板伸缩。曝光机包括真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件,真空吸附台面安装在运动组件上并在运动组件的驱动下在支架的下方运动,曝光镜头安装在支架上。本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机,通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔,以避免破真空吸附力不够,使其适用于不同大小的工件,节省了人力,也提高了稳定性,提高了产能。
技术领域
本实用新型涉及曝光领域,尤其涉及一种真空吸附台面及曝光机。
背景技术
PCB线路板直接成像或光刻加工时,均是靠曝光机的真空台面吸住工件(即PCB线路板)背面,严格平铺到曝光机的台面表面,再行曝光。实际工件因产品和拼版不同,尺寸大小并不一样,如果工作时台面真空吸附孔没有正好容纳,会导致工件吸附不平,引发曝光不良。
现有处理方法有:1.更换合适大小的垫板;2.把多余的真空孔用胶片覆盖。这两种方法都是需要人工操作,并不方便。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提出一种真空吸附台面和曝光机,其目的是解决曝光过程中由于台面与工件大小不适合导致曝光不良的问题,其简化操作。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:一种真空吸附台面,包括:
台面主体,所述台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔;
遮盖面板,所述遮盖面板覆盖在所述台面主体上,所述遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向,所述遮盖面板伸缩以控制所述遮盖面板遮盖所述台面主体的面积;
面板驱动装置,所述面板驱动装置驱动所述遮盖面板伸缩;
进一步的,所述吸附孔在X轴方向和Y轴方向上均匀分布。
进一步的,所述遮盖面板的两侧连接有连接件,所述面板驱动装置为电缸,所述连接件与所述面板驱动装置连接。
进一步的,两个所述连接件之间设置有固定杆,所述固定杆与所述遮盖面板的顶面固定连接。
进一步的,所述遮盖面板为聚氨酯材质的软板。
进一步的,所述真空吸附台面还包括卷料装置,所述卷料装置包括卷料轴、设置在所述卷料轴两端的支撑件、安装在所述支撑件上并与所述卷料轴的端部连接的轴承,所述卷料轴以其自身的轴线为转轴转动设置,所述遮盖面板缠绕在所述卷料轴上。
进一步的,所述卷料轴的端部连接有发条弹簧。
进一步的,台面主体在X轴方向上分为第一区域和第二区域,所述第一区域的吸附孔连接有真空泵,所述第一区域内的吸附孔通过一所述真空泵抽吸真空,所述第二区域包含多个子区域,每个子区域对应一个真空发生器。
进一步的,所述第二区域内的子区域包含对应Y轴方向至少一列吸附孔。
本实用新型还公开了一种曝光机,包括所述的真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件,所述真空吸附台面安装在所述运动组件上并在所述运动组件的驱动下在所述支架的下方运动,所述曝光镜头安装在所述支架上。
本实用新型的有益效果:本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机,通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔,以避免破真空吸附力不够,使其适用于不同大小的工件,台面第二区域内设置的多个真空发生器可选择性地控制多排吸附孔的开关,省了人力,也提高了稳定性,提高了产能。
附图说明
图1为实施例一的俯视图;
图2为实施例一的侧视图;
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