[发明专利]氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体

说明书

一种氧化物薄膜，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0。另外，一种氧化物烧结体，其包含Nb、Mo、O，其特征在于，Nb与Mo的含有比率(原子比)为0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8，O与金属(Nb+Mo)的含有比率(原子比)为1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.1，MoO₂相的归属于(‑111)面的XRD峰强度I_MoO2与背景强度I_BG的关系满足I_MoO2/I_BG＞3。本发明的课题在于提供一种氧化物薄膜以及适合于该薄膜的形成的溅射靶用氧化物烧结体，所述氧化物薄膜具有以下优异的特性：反射率和透射率低、具有优异的光吸收能力、而且可溶于蚀刻液中、容易加工，另一方面，耐候性高、不易发生经时变化。

技术领域

本发明涉及具有光吸收能力的氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体。

背景技术

在液晶显示器、等离子体显示器、有机电致发光(EL)显示器、触控面板、太阳能电池等中，使用包含ITO(氧化铟锡)的透明导电膜作为布线构件。ITO对于可见光具有优异的透射性，并且在氧化物中电阻率低，因此是作为布线构件的优异的材料。然而，在使显示器、面板大面积化的情况下，产生了电阻变高、不能应对大面积化的问题。

因此，在研究使用电阻率低的金属薄膜代替ITO膜作为布线构件。然而，在使用金属薄膜作为布线构件的情况下，产生了金属薄膜反射可见光、从而使显示器、面板的可视性降低的问题。针对该问题，在研究在金属薄膜的附近形成能够吸收反射光的膜，从而抑制由该金属薄膜引起的光的反射，实现可视性的提高。

关于减少光的反射的膜，例如专利文献1中公开了使用含有Cu和Fe中的任意一种、Ni和Mn中的任意一种的氧化物膜作为降低触控面板屏幕的布线图案的金属光泽的膜。另外，专利文献2中公开了与由铜箔等构成的布线层一起形成含有氧、铜、镍和钼的黑化层。

专利文献3～5涉及用于太阳能利用的太阳光吸收层、用于液晶显示器的黑色矩阵层的光吸收层，并且公开了在氧化物基质中分散有作为吸收成分的金属的、由两层构成的光吸收层。另外，记载了层整体的厚度在180nm～455nm的范围内、在380nm～780nm的波长范围内具有小于1％的光透射率(視感透過率)、小于6％的光反射率(視感反射率)等。

另外，除此以外，还已知相移光掩模作为要求光的透射率、反射率、膜厚的用途。相移光掩模出于利用光的干涉来提高分辨率的目的而使用。对于相移光掩模膜而言，根据所使用的激光波长，要求特定的膜厚、特定的透射率(约百分之几)、低反射率。此外，在装饰用途中，也存在减少光反射的膜的需求。

需要说明的是，专利文献6中记载了Nb的含量为1重量％～35重量％、剩余部分实质上为Mo的黑色矩阵用薄膜，并且该薄膜的一部分或全部以氧化物、氮化物、碳化物中的任意一种或两种以上的化合物的形式存在。然而，专利文献6中没有具体公开氧等的含有比率，完全不清楚能够得到何种程度的反射率、透射率。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-160448号公报

专利文献2：日本特开2017-41115号公报

专利文献3：日本特表2016-504484号公报

专利文献4：日本特表2016-502592号公报

专利文献5：日本特表2016-522317号公报

专利文献6：日本特开2000-214308号公报

发明内容

发明所要解决的问题