[发明专利]等离子体处理装置和生成等离子体的方法有效
申请号: | 201980004388.3 | 申请日: | 2019-06-10 |
公开(公告)号: | CN111052874B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 久保田绅治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;C23C16/505;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 生成 方法 | ||
例示的实施方式的等离子体处理装置包括腔室、高频电源部和修正信号生成部。高频电源部在第一期间输出脉冲状的高频电功率。高频电源部在第一区间之后的一个以上的第二期间输出合成高频电功率。修正信号生成部生成相对于第一期间的反射波监测信号以反相振荡的修正信号。高频电源部使用修正信号来生成合成高频电功率。电源部交替地反复进行第一期间的脉冲状的高频电功率的输出和一个以上的第二期间的合成高频电功率的输出。
技术领域
本发明涉及等离子体处理装置和生成等离子体的方法。
背景技术
为了进行电子器件的制造而进行等离子体处理。在等离子体处理中,使用等离子体处理装置。等离子体处理装置包括腔室和高频电源。高频电源为了由腔室内的气体生成等离子体而输出高频电功率。
在等离子体处理装置中,为了降低对高频电功率的反射波,在高频电源与负载之间设置有匹配器。关于匹配器,在专利文献1~3中有记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-241895号公报。
专利文献2:日本特表2018-504864号公报。
专利文献3:日本专利第3629705号说明书。
发明内容
发明所要解决的问题
在等离子体处理装置中,有时为了生成等离子体而使用脉冲状的高频电功率。在使用脉冲状的高频电功率的情况下,也要求降低反射波。
用于解决问题的方式
根据一个例示的实施方式,提供等离子体处理装置。包括等离子体处理装置腔室、高频电源部和修正信号生成部。高频电源部为了在腔室内从气体生成等离子体,输出脉冲状的高频电功率或者合成高频电功率。合成高频电功率是脉冲状的高频电功率与修正高频电功率的合成电功率。修正高频电功率是相对于对脉冲状的高频电功率的反射波,以反相振荡的电功率。修正信号生成部生成修正信号。修正信号是相对于表示对脉冲状的高频电功率的反射波的反射波监测信号,以反相振荡的信号。高频电源部在第一期间输出脉冲状的高频电功率。修正信号生成部由第一期间的反射波监测信号生成修正信号。高频电源部在第一期间之后的一个以上的第二期间分别输出使用修正信号生成的合成高频电功率。高频电源部交替地重复进行第一期间的脉冲状的高频电功率的输出和一个以上的第二期间的合成高频电功率的输出。
发明的效果
在使用脉冲状的高频电功率的情况下,能够降低反射波。
附图说明
图1是概略地表示一个例示的实施方式的等离子体处理装置的图。
图2是表示图1所示的等离子体处理装置的高频电源部的结构的一个例子和修正信号生成部的结构的一个例子的图。
图3是表示与图1所示的等离子体处理装置的等离子体的生成相关联的时序图的一个例子的图。
图4是表示在图1所示的等离子体处理装置生成的反射波监测信号的一个例子和反相信号的一个例子的图。
图5是表示一个例示的实施方式的生成等离子体的方法的流程图。
具体实施方式
以下,对各种例示的实施方式进行说明。
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