[发明专利]静电吸盘加热器及其制造方法

说明书

本发明涉及静电吸盘加热器及其制造方法，更详细而言，涉及一种包括接地电极及向所述接地电极外侧隔开既定距离形成的静电吸盘电极的静电吸盘加热器，通过减小晶片边缘翘起现象，晶片等对象体加热面各位置的温度偏差显著减少，具有能够提高加热面的温度均一性(TEMPERATURE UNIFORMITY)的效果。

技术领域

本发明涉及静电吸盘加热器及其制造方法，涉及一种为了提高晶片吸附均一性而包括在向接地电极外侧隔开既定距离的位置形成的静电吸盘电极的静电吸盘加热器及其制造方法。

背景技术

陶瓷加热器用于在既定的加热温度下，对半导体晶片、玻璃基板、柔性基板等多样目的的热处理对象体进行热处理。为了半导体晶片处理，陶瓷加热器也与静电吸盘功能结合而用作静电吸盘加热器。而且，在基于陶瓷加热器的薄膜工序时，为了去除陶瓷加热器内部产生的残留电流，还埋设接地电极。

图1是图示静电吸盘加热器的一个示例的图。

如果参照图1，陶瓷加热器一般包括从外部电极接受供电并发热的陶瓷板。陶瓷板100包括埋设于陶瓷烧结体的具有既定电阻的发热体。而且，所述陶瓷板可以包括接地电极和/或静电吸盘电极。

图2是图示以往发明的包括接地电极的陶瓷加热器的一个示例的图。

如果参考图2，以往发明的陶瓷加热器为了固定晶片(WAFER)而在陶瓷加热器上部面加工有晶片大小的穴(POKET)，工序气体流动时，借助于晶片边缘的错层而产生气体涡流，存在降低晶片边缘部分的吸附均一性(DEPOSITION UNIFORMITY)的问题。其结果，发生连晶片温度均一性也下降的问题。

发明内容

技术问题

本发明目的在于解决前述问题及其他问题。

又一目的在于提供一种静电吸盘加热器及其制造方法，用于防止在工序时因气体流动导致的晶片边缘翘起现象，增加晶片的吸附均一性，改善温度均一性。

技术方案

为了达成所述又一目的，根据本发明一个方面，提供一种包括接地电极及向所述接地电极外侧隔开既定距离形成的静电吸盘电极的静电吸盘加热器。

而且，根据本发明一个方面，所述接地电极及所述静电吸盘电极可以在同一平面上形成。

另外，根据本发明一个方面，所述静电吸盘电极可以为片型或网型中任意一种。

另外，根据本发明一个方面，所述接地电极可以为具有285mm直径的圆板形状，所述静电吸盘电极可以为内径290mm、外径320mm的环形状。

另外，根据本发明一个方面，所述静电吸盘电极可以具有0.2mm的厚度。

另外，根据本发明一个方面，可以还包括用于向所述静电吸盘电极供应电力的静电吸盘连接构件，且所述静电吸盘连接构件的材料可以为钼(Mo)。

另外，根据本发明一个方面，所述静电吸盘连接构件可以为片型或网型中任意一种。

而且，根据本发明又一方面，提供一种静电吸盘加热器制造方法，其特征在于，包括：对在第一陶瓷粉末层及第二陶瓷粉末层之间插入有埋设了接地电极及静电吸盘电极的陶瓷成型体的陶瓷粉末层结构进行成型的步骤；及烧结所述陶瓷粉末层结构的步骤；且所述静电吸盘电极向所述接地电极外侧隔开既定距离形成。

另外，根据本发明一个方面，所述陶瓷粉末层结构在所述第二陶瓷粉末层及第三陶瓷粉末层之间可以还包括发热体。

另外，根据本发明一个方面，所述陶瓷成型体的成型步骤可以包括：

成型体加工步骤；静电吸盘连接构件提供步骤；接地棒连接构件及静电吸盘棒连接构件提供步骤；及所述接地电极及所述静电吸盘电极提供步骤。