[发明专利]电磁波检测装置

说明书

电磁波检测装置(10)具有第一成像部(15)、行进部(18)、第二成像部(19)、以及第一检测部(20)。在行进部(18)沿着基准面(ss)配置有多个像素(px)。行进部(18)使从第一成像部(15)入射至基准面(ss)的电磁波沿第一方向(d1)行进。第一检测部(20)对从第二成像部(19)入射的电磁波进行检测。电磁波检测装置(10)至少满足如下配置中的至少一方：基准面(ss)以及第一检测部(20)的检测面各自的延长面交叉，第二成像部(19)的主轴与基准面(ss)以及第一检测部(20)的检测面交叉的配置；以及与行进部(18)的间隔被确定且以基准面(ss)为成像面的所述第一成像部(15)的物体面(vp)和基准面(ss)各自的延长面交叉，第一成像部(15)的主轴与基准面(ss)交叉的配置。

相关申请的相互参照

本申请主张2018年1月26日在日本申请的日本特愿2018-11881的优先权，并将该在先申请的公开全部内容引入本申请用于参照。

技术领域

本发明涉及一种电磁波检测装置以及信息获取系统。

背景技术

已知有具备如DMD(Digital Micro mirror Device：数字微镜器件)那样的对入射至每个像素的电磁波的行进方向进行切换的元件的装置。例如，已知有一种装置，该装置使物体的像暂时一次成像在DMD表面，再将在该 DMD表面上一次成像的像进一步通过透镜而在CCD表面上二次成像(参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利3507865号公报

发明内容

为了解决上述的各个课题，第一技术方案的电磁波检测装置，

包括：

具有：

第一成像部，对入射的电磁波进行成像；

行进部，沿着基准面配置有多个像素，针对所述每个像素使从所述第一成像部向所述基准面入射的电磁波沿第一方向行进；

第二成像部，对沿所述第一方向行进的电磁波进行成像；以及

第一检测部，对从所述第二成像部入射的电磁波进行检测，

所述电磁波检测装置至少满足如下配置的至少一方：

所述基准面以及所述第一检测部的检测面各自的延长面交叉，所述第二成像部的主轴通过所述基准面以及所述第一检测部的检测面的配置；以及

与所述行进部的间隔被确定且以所述基准面为成像面的所述第一成像部的物体面和所述基准面各自的延长面交叉，所述第一成像部的主轴通过所述基准面的配置。

另外，第二技术方案的电磁波检测装置，

具有：

第一成像部，对入射的电磁波进行成像；

行进部，沿着基准面配置有多个像素，针对所述每个像素使从所述第一成像部向所述基准面入射的电磁波沿第一方向行进；

第二成像部，对沿所述第一方向行进的电磁波进行成像；以及

第一检测部，对从所述第二成像部入射的电磁波进行检测，

所述电磁波检测装置至少满足如下配置中的至少一方：

所述基准面中的基于所述第一成像部所成的像的基于所述第二成像部所成的主轴附近的像包含于所述第一检测部的检测面的配置；以及

所述第一成像部的主轴所通过的对象物的基于所述第一成像部所成的主轴附近的像包含于所述基准面的配置。