[发明专利]Ag合金溅射靶及Ag合金溅射靶的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980007189.8 申请日: 2019-02-19
公开(公告)号: CN111587300A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 林雄二郎;小见山昌三 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C5/06;C22F1/14;C22F1/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 刁兴利;康泉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: ag 合金 溅射 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种Ag合金溅射靶,其特征在于,

具有如下组成:在合计0.1质量%以上且1.5质量%以下的范围内包含In及Sn中的至少一种以上,且剩余部分为Ag及不可避免的杂质,

在Ar气体压力0.1Pa、电流密度1.5W/cm2、累计电量0.01kWh/cm2的条件下实施溅射后的靶溅射面的算术平均表面粗糙度Ra设为7μm以下。

2.根据权利要求1所述的Ag合金溅射靶,其特征在于,

进一步在0.1质量%以上且7.5质量%以下的范围内包含Ge。

3.一种Ag合金溅射靶的制造方法,其特征在于,制造权利要求1或2所述的Ag合金溅射靶,所述Ag合金溅射靶的制造方法设为如下过程:

依次实施热镦锻造工序、热轧工序、冷却工序、冷轧工序、热处理工序、机械加工工序,

在所述热镦锻造工序中,在将保持温度设为750℃以上且850℃以下的范围内、将保持温度下的保持时间设为1小时以上且3小时以下的范围内的条件下进行加热,在6次以上且20次以下的范围内反复实施锻造成型比为1/2以上且1/1.2以下的范围内的锻造加工。

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