[发明专利]阻气层叠体以及具备该阻气层叠体的包装材料

权利要求书

1. 一种阻气层叠体，其具备

树脂基材、

含有羧酸类聚合物的第1被覆层、以及

含有多价金属化合物和树脂的第2被覆层，

所述阻气层叠体具有通过依次层叠所述树脂基材、所述第1被覆层及所述第2被覆层而成的结构，

在所述树脂基材与所述第1被覆层之间具备含有无机氧化物的无机气相沉积层，并且

在所述树脂基材与所述无机气相沉积层之间具备含有氨基甲酸酯类化合物的底层，

所述第2被覆层的厚度相对于所述第1被覆层的厚度的比率为1.0以上4.0以下，

所述第2被覆层满足以下条件1至3中的每一个：

条件1：所述第2被覆层的雾度为8％以下；

条件2：所述第2被覆层的表面粗糙度Ra为所述第2被覆层的厚度的1/2以下；

条件3：在所述第2被覆层的与所述第1被覆层侧相对的那一侧的表面上，每单位面积上的直径为1.5μm以上的凹部的个数为2个/0.01mm²以下。

2.根据权利要求1所述的阻气层叠体，其中，所述第2被覆层的厚度为0.10μm以上0.50μm以下。

3. 根据权利要求1或2所述的阻气层叠体，其中，

所述多价金属化合物为氧化锌，并且

基于所述第2被覆层的质量，所述氧化锌的含量为65质量％以上85质量％以下。

4.根据权利要求1或2所述的阻气层叠体，其中，所述第1被覆层与所述第2被覆层直接接触。

5.根据权利要求1或2所述的阻气层叠体，其用于将要进行蒸煮处理或煮沸处理的包装材料。

6.一种阻气层叠体，其具备由塑料材料构成的膜基材以及在所述膜基材上设置的被覆层，

所述被覆层包括：

含有多元羧酸类聚合物、以及选自由通式R¹Si(OR²)₃表示的硅烷偶联剂、其水解产物和它们的缩合物所组成的组中的至少一种含硅化合物的第1被覆层；以及

含有紫外线吸光度显示为0.3以上0.7以下的多价金属化合物的第2被覆层，所述紫外线吸光度是通过从由吸光光度法测定的波长350nm处的吸光度中减去波长500nm的吸光度而得的值，

在所述第1被覆层中，所述多元羧酸类聚合物的质量相对于所述含硅化合物的质量的比率在99.5 / 0.5至80.0 / 20.0的范围内，

并且，所述含硅化合物的质量是以所述硅烷偶联剂计的质量，通式中的R¹为包含缩水甘油基氧基或氨基的有机基团，R²为烷基，3个R²彼此相同或不同，

所述第2被覆层的厚度相对于所述第1被覆层的厚度的比率为1.0以上4.0以下，

所述第2被覆层满足以下条件1至3中的每一个：

条件1：所述第2被覆层的雾度为8％以下；

条件2：所述第2被覆层的表面粗糙度Ra为所述第2被覆层的厚度的1/2以下；

条件3：在所述第2被覆层的与所述第1被覆层侧相对的那一侧的表面上，每单位面积上的直径为1.5μm以上的凹部的个数为2个/0.01mm²以下。

7.根据权利要求6所述的阻气层叠体，其中，所述多价金属化合物为氧化锌。

8.根据权利要求6或7所述的阻气层叠体，其中，在所述膜基材与所述被覆层之间具备密合层以及由无机氧化物构成的无机气相沉积层。

9.根据权利要求6或7所述的阻气层叠体，其中，在所述膜基材上具备改性处理层，在所述改性处理层上具备由无机氧化物构成的无机气相沉积层，在所述无机气相沉积层上设置有所述被覆层。

10.根据权利要求8所述的阻气层叠体，其中，所述无机氧化物为氧化铝或氧化硅。